场发射扫描电子显微镜
本实用新型公开了一种场发射扫描电子显微镜,所述场发射扫描电子显微镜包括源方束张角控制镜、物镜、设于所述源方束张角控制镜和所述物镜之间的像方束张角控制镜、设于所述源方束张角控制镜和所述像方束张角控制镜之间的光圈,所述源方束张角控制镜设有第一极靴,所述像方束张角控制镜设有第二极靴,所述物镜设有第三极靴,所述第一极靴与所述光圈之间、所述光圈与所述第二极靴之间、所述第二极靴与所述第三极靴之间,其中的至少一处设有对中线圈。根据本实用新型实施例的场发射扫描电子显微镜,一方面能实现束流可调节和束张角优化的高度解耦,另一方面可以有效提高电子束调节的自由度,提高电子束与磁透镜的对中效果。...
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Format | Patent |
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Language | Chinese |
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07.04.2023
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Summary: | 本实用新型公开了一种场发射扫描电子显微镜,所述场发射扫描电子显微镜包括源方束张角控制镜、物镜、设于所述源方束张角控制镜和所述物镜之间的像方束张角控制镜、设于所述源方束张角控制镜和所述像方束张角控制镜之间的光圈,所述源方束张角控制镜设有第一极靴,所述像方束张角控制镜设有第二极靴,所述物镜设有第三极靴,所述第一极靴与所述光圈之间、所述光圈与所述第二极靴之间、所述第二极靴与所述第三极靴之间,其中的至少一处设有对中线圈。根据本实用新型实施例的场发射扫描电子显微镜,一方面能实现束流可调节和束张角优化的高度解耦,另一方面可以有效提高电子束调节的自由度,提高电子束与磁透镜的对中效果。 |
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Bibliography: | Application Number: CN202222638403U |