离子注入机

• Format: Patent
• Language: Chinese
• Published: 29.03.2019
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

该实用新型涉及种离子注入机，包括离子发射部和离子加速部，所述离子加速部包括回旋加速器和线性加速器，其中，所述回旋加速器连接到所述离子发射部，用于对离子发射部发射的离子进行回旋加速；所述线性加速器设置到所述回旋加速器的出口处，用于对经过回旋加速的离子进行线性加速。上述离子注入机由于离子加速部具有回旋加速器，可以在加速路径有限的情况下利用回旋加速原理对离子进行加速，使离子在离子注入机长度有限的情况下能够获得更高的速度、更高的能量，达到几十兆电子伏特，甚至几百兆电子伏特，加宽了所述离子注入机的能量范围，能够达到晶圆所需的注入深度。