微波电子回旋共振等离子体化学气相淀积设备

• Format: Patent
• Language: Chinese
• Published: 29.01.2019
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

本发明公开了种微波电子回旋共振等离子体化学气相淀积设备，该设备包括微波功率源及传输系统101、微波谐振腔体102、工艺室与样品台系统103、真空系统104、气路系统105、自动传片系统106、控制系统107，其中，微波谐振腔体内设有等间隔排列的磁场装置306，样品台系统设在工艺室内部，微波谐振腔体、真空系统、自动传片系统分别与工艺室809相连，微波功率源及传输系统与微波谐振腔体相连，控制系统的主机内固化有控制软件，通过接口分别控制微波功率源及传输系统、工艺室与样品台系统、真空系统、气路系统的工作状态，完成薄膜的淀积工艺过程。本发明具有大面积均匀性好、淀积速率高、自动化程度和生产效率高、可靠性好、功耗小、稳定性和重复性好的优点。