METHOD OF FORMING GRAPHENE OXIDE FILM ON A SUBSTRATE
A method of forming a graphene oxide (GO) film on a substrate involves depositing a GO ink on a surface of a porous substrate, and mechanically removing excess ink on the surface of the porous substrate while simultaneously providing a pressure difference that forces a liquid medium of the ink throu...
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Format | Patent |
Language | English French |
Published |
02.02.2023
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Summary: | A method of forming a graphene oxide (GO) film on a substrate involves depositing a GO ink on a surface of a porous substrate, and mechanically removing excess ink on the surface of the porous substrate while simultaneously providing a pressure difference that forces a liquid medium of the ink through the porous substrate to provide a GO film on the surface of the porous substrate. The method provides GO membranes having similar water vapor permeance but significantly better selectivity to GO membranes produced by traditional blade casting methods and to GO membranes produced by traditional vacuum filtration methods.
L'invention concerne un procédé de formation d'un oxyde de graphène (GO) sur un substrat, comprenant le dépôt d'une encre GO sur une surface d'un substrat poreux, et éliminer mécaniquement l'excès d'encre sur la surface du substrat poreux tout en fournissant simultanément une différence de pression qui force un milieu liquide de l'encre à travers le substrat poreux pour fournir un film de GO sur la surface du substrat poreux. Le procédé fournit des membranes de GO ayant une perméance à la vapeur d'eau similaire mais une sélectivité significativement meilleure pour les membranes de GO produites par des procédés de coulage de lame classiques et des membranes de GO produites par des procédés de filtration sous vide classiques. |
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Bibliography: | Application Number: CA20223226101 |