SYSTEMS AND METHODS FOR NITRIC OXIDE GENERATION AND DELIVERY
The present disclosure provides systems and methods for nitric oxide (NO) generation and/or delivery. In some aspects, a nitric oxide generation system comprises a plasma chamber configured to ionize a reactant gas including nitrogen and oxygen to form a product gas that includes NO, a scrubber down...
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Format | Patent |
Language | English French |
Published |
15.09.2022
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Summary: | The present disclosure provides systems and methods for nitric oxide (NO) generation and/or delivery. In some aspects, a nitric oxide generation system comprises a plasma chamber configured to ionize a reactant gas including nitrogen and oxygen to form a product gas that includes NO, a scrubber downstream from the plasma chamber and having a volume at least partially containing NO2 scrubbing material, and a flow controller downstream of the scrubber configured to control the flow of product gas from the scrubber to a delivery device. A pump is configured to convey product gas from the plasma chamber into the scrubber and is configured to pressurize the product gas in the scrubber when the flow controller is positioned to restrict the flow of product gas from the scrubber. The pressurized product gas accumulates within the scrubber and is at least partially scrubbed of NO2 prior to passage through the flow controller.
La présente divulgation concerne des systèmes et des procédés destinés à la génération et/ou à l'administration d'oxyde nitrique (NO). Selon certains aspects, un système de génération d'oxyde nitrique comprend une chambre à plasma conçue pour ioniser un gaz réactif comprenant de l'azote et de l'oxygène pour former un produit gazeux qui comprend du NO, un épurateur en aval de la chambre à plasma et ayant un volume contenant au moins partiellement un matériau de lavage de NO2, et un régulateur de débit en aval de l'épurateur conçu pour réguler l'écoulement de gaz produit de l'épurateur vers un dispositif d'administration. Une pompe est conçue pour transporter le gaz produit de la chambre à plasma dans l'épurateur et est conçue pour mettre sous pression le gaz produit dans l'épurateur lorsque le régulateur de débit est positionné pour limiter l'écoulement de gaz produit à partir de l'épurateur. Le gaz produit sous pression s'accumule à l'intérieur de l'épurateur et est au moins partiellement débarrassé du NO2 avant le passage à travers le régulateur de débit. |
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Bibliography: | Application Number: CA20223211562 |