PHOTOREACTOR AND SOURCE FOR GENERATING UV AND VUV
There is provided a photoreactor for the remediation of gaseous emissions and/or contaminated water using ultraviolet (UV) or vacuum ultraviolet (VUV). There is also provided an emission source for generating UV and/or VUV, the source comprising: a microwave generator; a chamber arranged to receive...
Saved in:
Main Authors | , |
---|---|
Format | Patent |
Language | English French |
Published |
28.04.2022
|
Subjects | |
Online Access | Get full text |
Cover
Loading…
Summary: | There is provided a photoreactor for the remediation of gaseous emissions and/or contaminated water using ultraviolet (UV) or vacuum ultraviolet (VUV). There is also provided an emission source for generating UV and/or VUV, the source comprising: a microwave generator; a chamber arranged to receive microwaves generated by the microwave generator, the chamber comprising: a gas comprising species for forming excimers; a resonator arranged to receive the microwaves in the chamber and generate a plasma; a first electrode spaced apart from the resonator; and a voltage source configured to generate an electric field between the resonator and the first electrode, wherein, on application of the electric field, the electric field drives electrons and/or ions from the plasma to generate excimers and produce vacuum ultraviolet or ultraviolet emission. There are also provided methods of generating UV and/or VUV, and methods of remediating fluids.
L'invention concerne un photoréacteur permettant de remédier à des émissions gazeuses et/ou à de l'eau contaminée à l'aide d'ultraviolets (UV) ou d'ultraviolets du vide (UVV). L'invention concerne également une source d'émission permettant de générer des UV et/ou des UVV, la source comprenant : un générateur de micro-ondes ; une chambre conçue pour recevoir des micro-ondes générées par le générateur de micro-ondes, la chambre comprenant : un gaz comprenant des espèces destinées à former des excimères ; un résonateur conçu pour recevoir les micro-ondes dans la chambre et générer un plasma ; une première électrode espacée du résonateur ; et une source de tension conçue pour générer un champ électrique entre le résonateur et la première électrode. Lors de l'application du champ électrique, le champ électrique excite des électrons et/ou des ions du plasma pour générer des excimères et produire une émission d'ultraviolets ou d'ultraviolets du vide. L'invention concerne également des procédés de génération d'UV et/ou d'UVV, et des procédés de remédiation pour des fluides. |
---|---|
Bibliography: | Application Number: CA20213194060 |