APPARATUS

• Main Authors: LOOS, MICHEL, KRAMER, RONALD HARM GUNTHER, VAN DER MEULEN, FRITS, DE KLERK, ANGELO CESAR PETER, KRUIZINGA, MATTHIAS, DINGS, JACOBUS MARIA, VAN LOO, JEROME FRANCOIS SYLVAIN VIRGILE, AZEREDO LIMA, JORGE MANUEL, JANSEN, MAARTEN MATHIJS MARINUS, KESTERS, MARTINUS JOZEF MARIA, LEENDERS, MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS, KERSTENS, ROLAND JACOBUS JOHANNES, BRUIJN, MARC, VERBRUGGE, BEATRIJS LOUISE MARIE-JOSEPH KATRIEN, LOOPSTRA, ERIK ROELOF, THEUERZEIT, FRANK JOHANNES CHRISTIAAN, LANSBERGEN, ROBERT GABRIEL MARIA, MIDDEL, GEERT, DEKKERS, JEROEN, VAN DEN BOSCH, GERRIT, BROUNS, DERK SERVATIUS GERTRUDA, VAN LIEVENOOGEN, ANNE JOHANNES WILHELMUS, JANSSEN, PAUL, JANSSEN, MAURICE LEONARDUS JOHANNES, REIJNDERS, SILVESTER MATHEUS
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 21.02.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Tooling for a mask assembly suitable for use in a lithographic process, the mask assembly comprising a patterning device; and a pellicle frame configured to support a pellicle and mounted on the patterning device with a mount; wherein the mount provides a releasably engageable attachment between the patterning device and the pellicle frame. L'invention concerne un outillage pour un ensemble masque pouvant être utilisé dans un procédé lithographique, l'ensemble masque comprenant un dispositif de formation de motifs ; et un cadre à pellicule conçu pour soutenir une pellicule et monté sur le dispositif de formation de motifs au moyen d'un support ; le support permettant de solidariser le dispositif de formation de motifs et le cadre à pellicule de manière séparable.