METHOD FOR PRODUCING SEVOFLURANE

• Main Authors: OONO, TOSHIHIKO, AKIBA, SHINYA, YOSHIMURA, TAKAAKI, FUJIWARA, MASAKI
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 16.01.2018
• Subjects: ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS; CHEMISTRY; METALLURGY; ORGANIC CHEMISTRY

An object of the present invention is to remove fluoromethyl-1,1,3,3,3-pentafluoroisopropenyl (compound A) from a composition containing sevoflurane and compound A so as to collect high-purity sevollurane. The present invention concerns a method for producing sevoflurane containing substantially no compound A, comprising the following steps of: bringing a composition containing hydrogen fluoride (HF) and water at a mass ratio of 1:1 to 1:30 into contact with a 1st organic liquid containing sevoflurane and a compound A, thereby obtaining a 2nd organic liquid containing the compound A in an amount that is lower than that in the 1st organic liquid (step 1a); and distilling the 2nd organic liquid under the presence of a degradation inhibitor, thereby obtaining sevoflurane containing substantially no compound A as a main distillation fraction (step 2). Un objet de la présente invention est de retirer un fluoromethyl-1,1,3,3,3-hexafluoroisopropenyl (composé A) dune composition renfermant un sévodlurane et un composé A de sorte du sévoflurane de grande pureté. La présente invention concerne un procédé de production de sévoflurane ne renfermant substantiellement aucun composé A, comprenant les étapes de : amener une composition renfermant du fluorure dhydrogène (1-IF) et de leau à un rapport de masse de 1:1 à 1:30 en contact avec un premier liquide organique renfermant du sévoflurane et un composé A, pour ainsi obtenir un 2e liquide organique renfermant le composé A dans une quantité qui est inférieure à celle du 1er liquide organique (étape Ia); et distiller le 2e liquide organique en présence dun inhibiteur de dégradation, pour ainsi obtenir du sévoflurane renfermant substantiellement aucun composé A comme principale fraction de distillation (étape 2).