APARELHO DE IMPRESSÃO E MÉTODO

APARELHO DE IMPRESSÃO E MÉTODO. Um aparelho de impressão inclui um molde de silício e uma camada antiaderente que reveste o molde de silício. O molde de silício inclui uma pluralidade de características posicionadas em um passo médio inferior a cerca de 425 nm, cada uma da pluralidade de característ...

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Main Authors DANNY YUAN CHAN, DANIEL WRIGHT, TIMOTHY J. MERKEL, RUIBO WANG, AVISHEK AIYAR, TANMAY GHONGE, NEIL BRAHMA, ARTHUR PITERA
Format Patent
LanguagePortuguese
Published 16.11.2022
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:APARELHO DE IMPRESSÃO E MÉTODO. Um aparelho de impressão inclui um molde de silício e uma camada antiaderente que reveste o molde de silício. O molde de silício inclui uma pluralidade de características posicionadas em um passo médio inferior a cerca de 425 nm, cada uma da pluralidade de características compreendendo uma depressão tendo uma abertura com sua maior dimensão de abertura sendo inferior a cerca de 300 nm. A camada antiaderente inclui uma rede de polímero de silano reticulado. An imprinting apparatus includes a silicon master and an anti-stick layer coating the silicon master. The silicon master includes a plurality of features positioned at an average pitch of less than about 425 nm, each of the plurality of features comprises a depression having an opening with its largest opening dimension being less than about 300 nm. The anti-stick layer includes a crosslinked silane polymer network.
Bibliography:Application Number: BR20221119378