SISTEMAS MODIFICADORES POLARES PARA COPOLIMERIZAÇÃO EM BLOCO COM ALTO CONTEÚDO DE VINILA, COPOLÍMERO EM BLOCO, E SEU PROCESSO DE PRODUÇÃO

• Main Authors: CHRISTOPHER J. HARDIMAN, SERGIO CORONA GALVAN, LUIS ANTONIO RODRIGUEZ GUADARRAMA, SERGIO ALBERTO MOCTEZUMA ESPIRICUETO, DANIEL ABRAHAM ELIZARRARAS MAYA
• Format: Patent
• Language: Portuguese
• Published: 28.03.2023
• Subjects: ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; ADHESIVES; CHEMISTRY; COMPOSITIONS BASED THEREON; DYES; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS; METALLURGY; MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS; MISCELLANEOUS COMPOSITIONS; NATURAL RESINS; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; PAINTS; POLISHES; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES

A presente invenção refere-se a sistemas modificadores polares baseados em uma mistura de DTHFP, ETE, TMEDA, DMTHFMA e/ou compostos funcionalmente similares com BDMAEE e SMT que são usados para fazer copolímeros em bloco que possuem altos níveis de unidades de repetição de vinila pendente com ligação dupla, que através da adição da ligação 1,2-butadieno altamente seletiva, baixa formação de vinilciclopentano, distribuição de peso molecular unimodal estreita e um baixo nível de unidades de repetição de comonômero randomizado. Os copolímeros em bloco têm níveis muito altos de conteúdo de 1,2-vinila e alta adição de ligação 3,4-vinila do monômero de dieno conjugado e baixo conteúdo de vinilciclopentano; os sistemas modificadores polares fornecem uma taxa de polimerização rápida, com uma distribuição de peso molecular unimodal estreita. Os sistemas modificadores polares permitem a operação em temperatura mais elevada do que os sistemas da técnica anterior, o que reduz as necessidades de resfriamento. Polar modifier systems based on a blend of DTHFP, ETE, TMEDA, DMTHFMA and/or functionally similar compounds with BDMAEE and SMT are used to make block copolymers having high levels of pendant vinyl double bond repeat units, which is through highly selective 1,2-bond butadiene addition, low vinylcyclopentane formation, unimodal narrow molecular weight distribution, and a low level of randomized co-monomer repeat units. The block copolymers have very high levels of 1,2-vinyl content and high 3,4-vinyl bond addition of the conjugated diene monomer and low vinylcyclopentane content. The polar modifier systems provide a fast polymerization rate, with a unimodal narrow molecular weight distribution. The polar modifier systems allow operation at a higher temperature than in prior art systems, which reduces cooling requirements.