Plasmatechnik 4.0 Stand der Technik, Entwicklungen und Erwartungen

• Published in: Vakuum in Forschung und Praxis : Zeitschrift für Vakuumtechnologie, Oberflèachen und Dünne Schichten Vol. 30; no. 6; pp. 34 - 39
• Main Authors: Ferse, Katrin, Awakowicz, Peter, Beck, Uwe, Brand, Carola, Engelstädter, Jan Peter, Fiedler, Wilfriede, Foest, Rüdiger, Kersten, Holger, Lemmer, Oliver, Schäfer, Hans-Jürgen, Schwock, Alexander
• Format: Journal Article
• Language: German
• Published: 01.12.2018
• ISSN: 0947-076X; 1522-2454
• DOI: 10.1002/vipr.201800697

Summary Plasma Technology 4.0 – State of the art, developments and expectations New technologies offer great opportunities for plasma applications. This fact is also known by the players in surface technology who deal intensively with these current topics. In everyday practice there are already good examples of integrable IoT services for process technology right through to networked business processes. The expectations are high and the concerns as well. Beginning with social aspects of the man‐machine interface through standardization to cyber security there are numerous topics that are discussed in the community. The potential of the plasma technology drives the stakeholders and inspires to more and more new research projects for intelligent process diagnostics and process control. Zusammenfassung Neue Technologien bieten für die Plasmaanwendungen große Chancen. Das wissen auch die Akteure der Oberflächentechnik, die sich intensiv mit diesen aktuellen Themen auseinandersetzen. In der Alltagspraxis gibt es bereits erste gute Beispiele von integrierbaren IoT Services für die Prozesstechnik bis hin zu vernetzten Geschäftsabläufen. Die Erwartungen sind hoch und die Bedenken ebenso. Beginnend von sozialen Aspekten der Schnittstelle Mensch‐Maschine, über Standardisierung bis hin zur Cyber‐Security gibt es zahlreiche Themenfelder, die in der Community diskutiert werden. Das Potenzial der Plasmatechnologie treibt die Akteure an und inspiriert zu immer neuen Forschungsprojekten für intelligente Prozessdiagnostik und Prozesssteuerung.