用于金刚石摩擦化学抛光的Ni-W合金盘制备

TQ164%TG58%TQ153.2; 为探究镀液成分、工艺条件等因素对Ni-W合金镀层的影响,制备出低内应力、高硬度的Ni-W合金盘,用于金刚石的摩擦化学抛光.采用单一性实验分别探究络合剂浓度、溶液pH、糖精钠浓度对镀层内应力、钨含量、硬度以及沉积速率的影响,并探究不同添加剂对镀层表面整平的效果.最终选用水杨醛为整平剂,并采用反向脉冲电流降低了镀层表面粗糙度,制备出硬度达HV 713,镀层厚度约为 0.66 mm的Ni-W合金盘.使用合金盘对金刚石进行摩擦化学抛光,并探究合适的抛光工艺参数.在合金盘转速为8 000 r/min,压力为40 N时,金刚石的抛光效果较好,其材料去除率为 5.56...

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Published in金刚石与磨料磨具工程 Vol. 44; no. 1; pp. 39 - 49
Main Authors 牛昊, 金洙吉, 沈煜, 杨辉鹏
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 大连理工大学, 精密与特种加工教育部重点实验室, 辽宁 大连 116024 01.02.2024
Subjects
摩擦化学抛光
diamond
tribochemical polishing
金刚石
Ni-W alloy
镀层内应力
Ni-W合金
internal stress of coating
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Summary:TQ164%TG58%TQ153.2; 为探究镀液成分、工艺条件等因素对Ni-W合金镀层的影响,制备出低内应力、高硬度的Ni-W合金盘,用于金刚石的摩擦化学抛光.采用单一性实验分别探究络合剂浓度、溶液pH、糖精钠浓度对镀层内应力、钨含量、硬度以及沉积速率的影响,并探究不同添加剂对镀层表面整平的效果.最终选用水杨醛为整平剂,并采用反向脉冲电流降低了镀层表面粗糙度,制备出硬度达HV 713,镀层厚度约为 0.66 mm的Ni-W合金盘.使用合金盘对金刚石进行摩擦化学抛光,并探究合适的抛光工艺参数.在合金盘转速为8 000 r/min,压力为40 N时,金刚石的抛光效果较好,其材料去除率为 5.56 μm/min,磨削比达 0.394,金刚石表面粗糙度Sa为 3.7 nm.使用传统铸铁盘对金刚石进行摩擦化学抛光,通过对比磨损参数发现,Ni-W合金盘能够达到更好的抛光效果.
ISSN:1006-852X
DOI:10.13394/j.cnki.jgszz.2023.0042