基于AFAM纳米多孔氧化硅薄膜超声幅值成像的试验研究

U461%TP308; 为研究原子力声学显微镜(atomic force acoustic microscopy, AFAM)技术检测纳米多孔氧化硅薄膜的超声幅值成像的影响因素,通过基于AFAM技术的谐振频率检测及超声幅值成像系统,试验得到了纳米氧化硅薄膜和纳米多孔氧化硅薄膜的前2阶接触谐振频率及其超声幅值成像,分析试验过程中的参数如激励频率、扫描频率对稳定性的影响及超声激励对纳米摩擦力的影响.试验结果显示,超声频率会影响超声幅值成像的对比度,超声激励降低了扫描过程中的摩擦力....

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Published in北京工业大学学报 Vol. 44; no. 5; pp. 757 - 763
Main Authors 张改梅, 曹玥, 宋晓利, 何存富, 洪富
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 北京印刷学院印刷与包装工程学院,北京,102600%北京工业大学机械工程与应用电子技术学院,北京,100124 01.05.2018
Subjects
atomic force acoustic microscope
原子力声学显微镜
纳米薄膜
幅值成像
nano-film
ultrasonic excitation
超声激励
amplitude imaging
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ISSN0254-0037
DOI10.11936/bjutxb2017070002

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Summary:U461%TP308; 为研究原子力声学显微镜(atomic force acoustic microscopy, AFAM)技术检测纳米多孔氧化硅薄膜的超声幅值成像的影响因素,通过基于AFAM技术的谐振频率检测及超声幅值成像系统,试验得到了纳米氧化硅薄膜和纳米多孔氧化硅薄膜的前2阶接触谐振频率及其超声幅值成像,分析试验过程中的参数如激励频率、扫描频率对稳定性的影响及超声激励对纳米摩擦力的影响.试验结果显示,超声频率会影响超声幅值成像的对比度,超声激励降低了扫描过程中的摩擦力.
ISSN:0254-0037
DOI:10.11936/bjutxb2017070002