基于光化学反应制备的本征型自修复涂层研究进展

本文简要介绍了基于光化学反应制备的本征型自修复涂层研究进展,重点介绍了基于双硫键交换、基于Diels-Alder可逆反应、基于氢键作用、基于光二聚反应,以及基于自填充作用的自修复涂层,对涂层的制备方法、自修复机理及修复效率进行了简要阐述,并对基于光化学反应制备的本征型自修复涂层在未来的发展及应用进行了展望....

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Published in影像科学与光化学 Vol. 38; no. 5; pp. 780 - 789
Main Authors 周珍, 苏循政, 刘敬成, 刘仁
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 江南大学化学与材料工程学院,江苏无锡214122 01.09.2020
Subjects
自修复
本征型
涂层
动态可逆化学
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ISSN1674-0475
DOI10.7517/issn.1674-0475.200404

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Summary:本文简要介绍了基于光化学反应制备的本征型自修复涂层研究进展,重点介绍了基于双硫键交换、基于Diels-Alder可逆反应、基于氢键作用、基于光二聚反应,以及基于自填充作用的自修复涂层,对涂层的制备方法、自修复机理及修复效率进行了简要阐述,并对基于光化学反应制备的本征型自修复涂层在未来的发展及应用进行了展望.
ISSN:1674-0475
DOI:10.7517/issn.1674-0475.200404