含偶氮苯基团的光敏型两亲化合物的合成及光照对其性质的影响

以对甲基苯胺和苯酚为主要原料,通过四步反应合成了一种含偶氮苯的光敏型两亲化合物AS,其结构用1H NMR进行表征,并利用紫外吸收光谱研究了AS的光异构化,结果表明,在紫外光照射后,AS的结构由反式构型变为顺式构型.测定了化合物AS在水溶液中表面张力,计算相应的物化参数,发现紫外光照射后AS的临界胶束浓度(cmc)增加,最小表面张力(γcmc)增大,饱和吸附量(Γmax)减小,最小分子横截面积(Amin)变大.测定了AS溶液在石英表面的接触角,发现紫外光照射后接触角减小,AS对石英的润湿性能增强.利用石英晶体微天平(QCM-D)研究了化合物AS在石英表面的吸附过程,发现紫外光照射后AS在石英表面...

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Published in影像科学与光化学 Vol. 38; no. 4; pp. 615 - 620
Main Authors 晁俊杰, 姜小明
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 贵州大学化学与化工学院,贵州贵阳,550025 01.07.2020
Subjects
偶氮苯
两亲化合物
表面性质
吸附
石英晶体微天平
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ISSN1674-0475
DOI10.7517/issn.1674-0475.200402

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Summary:以对甲基苯胺和苯酚为主要原料,通过四步反应合成了一种含偶氮苯的光敏型两亲化合物AS,其结构用1H NMR进行表征,并利用紫外吸收光谱研究了AS的光异构化,结果表明,在紫外光照射后,AS的结构由反式构型变为顺式构型.测定了化合物AS在水溶液中表面张力,计算相应的物化参数,发现紫外光照射后AS的临界胶束浓度(cmc)增加,最小表面张力(γcmc)增大,饱和吸附量(Γmax)减小,最小分子横截面积(Amin)变大.测定了AS溶液在石英表面的接触角,发现紫外光照射后接触角减小,AS对石英的润湿性能增强.利用石英晶体微天平(QCM-D)研究了化合物AS在石英表面的吸附过程,发现紫外光照射后AS在石英表面的吸附量减小,吸附膜厚度降低.
ISSN:1674-0475
DOI:10.7517/issn.1674-0475.200402