SnTe纳米薄膜的椭圆偏振光谱研究

O434.3; SnTe纳米薄膜材料光学常数的准确获取,对于其在高性能光电器件设计和在光电子领域的潜在应用具有重要的意义.然而,目前仍然很少有关于获取其纳米薄膜光学常数方法的相关研究报道.采用磁控溅射法以SnTe单靶为靶材,在石英衬底上制备了 SnTe纳米薄膜;在未加衬底温度和未进行退火处理的条件下,通过制备工艺参数优化,即得到晶化的、组分可控的面心立方结构SnTe纳米薄膜.采用椭圆偏振光谱法,建立不同的拟合模型结构,利用SE数据库中的SnTe材料数据列表和Tauc-Laurents模型对所制备的SnTe纳米薄膜材料的膜厚、组成及折射率、消光系数等光学常数进行了研究.结果显示,具有该厚度的Sn...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in红外与毫米波学报 Vol. 42; no. 5; pp. 581 - 587
Main Authors 宋立媛, 唐利斌, 王善力, 郝群, 孔令德, 李俊斌
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 北京理工大学光电学院信息光子技术工信部重点实验室,北京 100081 01.10.2023
云南省先进光电材料与器件重点实验室,云南昆明 650223%昆明物理研究所,云南昆明 650223%北京理工大学光电学院信息光子技术工信部重点实验室,北京 100081
昆明物理研究所,云南昆明 650223
Subjects
optical constants
光学常数
SnTe纳米薄膜
椭圆偏振光谱
spectral ellipsometry
SnTe nanofilm
Online AccessGet full text
ISSN1001-9014
DOI10.11972/j.issn.1001-9014.2023.05.003

Cover

More Information
Summary:O434.3; SnTe纳米薄膜材料光学常数的准确获取,对于其在高性能光电器件设计和在光电子领域的潜在应用具有重要的意义.然而,目前仍然很少有关于获取其纳米薄膜光学常数方法的相关研究报道.采用磁控溅射法以SnTe单靶为靶材,在石英衬底上制备了 SnTe纳米薄膜;在未加衬底温度和未进行退火处理的条件下,通过制备工艺参数优化,即得到晶化的、组分可控的面心立方结构SnTe纳米薄膜.采用椭圆偏振光谱法,建立不同的拟合模型结构,利用SE数据库中的SnTe材料数据列表和Tauc-Laurents模型对所制备的SnTe纳米薄膜材料的膜厚、组成及折射率、消光系数等光学常数进行了研究.结果显示,具有该厚度的SnTe纳米薄膜材料在可见光波段具有较高的折射率、在可见到近红外具有较宽的光谱吸收.
ISSN:1001-9014
DOI:10.11972/j.issn.1001-9014.2023.05.003