负偏压对电弧离子镀CrAlN涂层组织和性能的影响

TB43; 采用电弧离子镀技术在高速钢基底上沉积CrAlN涂层.对CrAlN涂层的表面形貌、微观组织、显微硬度、结合强度、摩擦学性能进行了分析,研究了负偏压对CrAlN涂层组织和性能的影响.结果表明:在一定范围内随着负偏压的增加,涂层表面大颗粒数量逐渐减少,涂层变得更加致密;但过大的负偏压导致离子轰击作用过强,使涂层表面再次出现缺陷.当负偏压为 -200 V时,涂层的晶粒尺寸最小,并具有良好的结晶度.涂层的显微硬度和结合强度均随负偏压的增加呈现出先增加后减小的趋势. 当负偏压为 -200 V时,显微硬度达到最大值,为28. 6 GPa,同时具有最好的摩擦学性能....

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Published in东北大学学报（自然科学版） Vol. 39; no. 7; pp. 981 - 989
Main Authors 蔺增, 陈彬, 乔宏, 赵晓波
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 东北大学 机械工程与自动化学院,辽宁 沈阳,110819%重庆新恒基真空镀膜有限公司,重庆,402760 01.07.2018
Subjects
负偏压
表面形貌
microstructure
微观结构
摩擦学性能
surface morphology
tribological properties
机械性能
negative bias voltage
mechanical properties
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Summary:TB43; 采用电弧离子镀技术在高速钢基底上沉积CrAlN涂层.对CrAlN涂层的表面形貌、微观组织、显微硬度、结合强度、摩擦学性能进行了分析,研究了负偏压对CrAlN涂层组织和性能的影响.结果表明:在一定范围内随着负偏压的增加,涂层表面大颗粒数量逐渐减少,涂层变得更加致密;但过大的负偏压导致离子轰击作用过强,使涂层表面再次出现缺陷.当负偏压为 -200 V时,涂层的晶粒尺寸最小,并具有良好的结晶度.涂层的显微硬度和结合强度均随负偏压的增加呈现出先增加后减小的趋势. 当负偏压为 -200 V时,显微硬度达到最大值,为28. 6 GPa,同时具有最好的摩擦学性能.
ISSN:1005-3026
DOI:10.12068/j.issn.1005-3026.2018.07.014