p-on-n长波、甚长波碲镉汞红外焦平面器件技术研究
TN215; As注入掺杂的p-on-n结构器件具有暗电流小、R0A值高、少子寿命长等优点,是长波、甚长波碲镉汞红外焦平面器件发展的重要趋势.介绍了由昆明物理研究所研究制备的77 K温度下截止波长为9.5μm、10.1μm和71 K下14.97μm的p-on-n长波、甚长波碲镉汞红外焦平面器件,对器件的响应率、NETD、暗电流及R0A等性能参数进行测试分析.测试结果表明,器件的有效像元率在99.78%~99.9%之间,器件的NETD均小于21 mK.实现了p-on-n长波、甚长波碲镉汞红外焦平面器件的有效制备....
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Published in | 红外与毫米波学报 Vol. 41; no. 3; pp. 534 - 539 |
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Main Authors | , , , , , , |
Format | Journal Article |
Language | Chinese |
Published |
昆明物理研究所,昆明650223
01.06.2022
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Subjects | |
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ISSN | 1001-9014 |
DOI | 10.11972/j.issn.1001-9014.2022.03.002 |
Cover
Summary: | TN215; As注入掺杂的p-on-n结构器件具有暗电流小、R0A值高、少子寿命长等优点,是长波、甚长波碲镉汞红外焦平面器件发展的重要趋势.介绍了由昆明物理研究所研究制备的77 K温度下截止波长为9.5μm、10.1μm和71 K下14.97μm的p-on-n长波、甚长波碲镉汞红外焦平面器件,对器件的响应率、NETD、暗电流及R0A等性能参数进行测试分析.测试结果表明,器件的有效像元率在99.78%~99.9%之间,器件的NETD均小于21 mK.实现了p-on-n长波、甚长波碲镉汞红外焦平面器件的有效制备. |
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ISSN: | 1001-9014 |
DOI: | 10.11972/j.issn.1001-9014.2022.03.002 |