中波PIN结构碲镉汞雪崩器件变温特性的数值模拟研究

O471.5%TN305.3; 本文对中波HgCdTe APD进行二维数值模拟,通过与实验结果的对比获得80K下PIN结构的APD器件参数.对不同工作温度下的APD器件暗电流机制进行了研究,发现在高工作温度下,影响暗电流的主要是SRH(小偏压)和雪崩机制(大偏压).对在高工作温度情况下各层参数的变化引起器件性能的变化进行了研究,对不同层厚度、掺杂浓度对器件性能的影响进行了相应理论计算,并对计算结果进行相应的对比研究,获得了理论上最优化的HgCdTe APD高温器件结构,为后续高工作温度的APD器件的研发提供重要参考....

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Published in红外与毫米波学报 Vol. 40; no. 5; pp. 576 - 581
Main Authors 沈川, 杨辽, 郭慧君, 杨丹, 陈路, 何力
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 国科大杭州高等研究院,浙江杭州310024 01.10.2021
中国科学院上海技术物理研究所红外材料与器件重点实验室,上海200083%中国科学院上海技术物理研究所红外材料与器件重点实验室,上海200083
Subjects
HgCdTe;APD结构;数值模拟;高工作温度
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ISSN1001-9014
DOI10.11972/j.issn.1001-9014.2021.05.002

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Summary:O471.5%TN305.3; 本文对中波HgCdTe APD进行二维数值模拟,通过与实验结果的对比获得80K下PIN结构的APD器件参数.对不同工作温度下的APD器件暗电流机制进行了研究,发现在高工作温度下,影响暗电流的主要是SRH(小偏压)和雪崩机制(大偏压).对在高工作温度情况下各层参数的变化引起器件性能的变化进行了研究,对不同层厚度、掺杂浓度对器件性能的影响进行了相应理论计算,并对计算结果进行相应的对比研究,获得了理论上最优化的HgCdTe APD高温器件结构,为后续高工作温度的APD器件的研发提供重要参考.
ISSN:1001-9014
DOI:10.11972/j.issn.1001-9014.2021.05.002