石墨烯基/半导体金属氧化物复合光催化剂制备工艺研究进展

TQ426; 光催化剂因其具有强氧化性、高化学稳定性、环保、无毒性等优点,广泛应用于污水处理、空气净化、疾病治疗、环境修复等领域.为改善纳米光催化剂的光响应范围,添加石墨烯基系列材料已成为国内外的研究热点.综述了石墨烯基材料与半导体金属氧化物复合光催化剂研究现状,总结了不同制备工艺对石墨烯基/半导体金属氧化物复合光催化剂形貌结构和光催化性能的影响,对各类制备工艺的优缺点进行了比较,并指出了相关工艺需要克服的关键技术问题,展望了石墨烯基/半导体金属氧化物复合光催化剂未来发展方向,以期为提高半导体金属氧化物的光催化性能和石墨烯基/半导体金属氧化物复合光催化剂制备工艺的优化提供参考....

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Published in工业水处理 Vol. 44; no. 2; pp. 63 - 72
Main Authors 王宁, 林家一, 李涛, 薛安, 陈璐, 黎阳
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 贵州省高等学校无机非金属功能材料重点实验室,贵州贵阳 550025 01.02.2024
贵州师范大学材料与建筑工程学院,贵州贵阳 550025%贵州师范大学材料与建筑工程学院,贵州贵阳 550025
贵州省高等学校轻质材料工程中心,贵州贵阳 550025
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ISSN1005-829X
DOI10.19965/j.cnki.iwt.2022-1287

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Summary:TQ426; 光催化剂因其具有强氧化性、高化学稳定性、环保、无毒性等优点,广泛应用于污水处理、空气净化、疾病治疗、环境修复等领域.为改善纳米光催化剂的光响应范围,添加石墨烯基系列材料已成为国内外的研究热点.综述了石墨烯基材料与半导体金属氧化物复合光催化剂研究现状,总结了不同制备工艺对石墨烯基/半导体金属氧化物复合光催化剂形貌结构和光催化性能的影响,对各类制备工艺的优缺点进行了比较,并指出了相关工艺需要克服的关键技术问题,展望了石墨烯基/半导体金属氧化物复合光催化剂未来发展方向,以期为提高半导体金属氧化物的光催化性能和石墨烯基/半导体金属氧化物复合光催化剂制备工艺的优化提供参考.
ISSN:1005-829X
DOI:10.19965/j.cnki.iwt.2022-1287