固定触媒層によるベンゼンの水素添加反応 反応の基礎的挙動について

存在下気相でベンゼンを水素添加シクロヘキサンを合成する反応につき, 高圧下においてその基礎的挙動の検討を行なった結果, 　　けの反応速度はHougen-Watsonの速度式にまとめられた。生成シクロヘキサン中に含まれる不純物パラフィン類の副生は反応　　が支配的であることを確かめた。さらに触媒活性は反応期間中にその触媒で処理したべンゼンの総量に対して対数的に低下するこに基づいて, 寿命の推定を行なった。...

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Published in化学工学 Vol. 34; no. 4; pp. 402 - 406,a1
Main Authors 大谷, 精弥, 岩村, 孝雄, 赤塚, 武昭, 山崎, 徹, 野口, 義夫
Format Journal Article
LanguageJapanese
Published 公益社団法人 化学工学会 05.04.1970
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ISSN0375-9253
DOI10.1252/kakoronbunshu1953.34.402

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Summary:存在下気相でベンゼンを水素添加シクロヘキサンを合成する反応につき, 高圧下においてその基礎的挙動の検討を行なった結果, 　　けの反応速度はHougen-Watsonの速度式にまとめられた。生成シクロヘキサン中に含まれる不純物パラフィン類の副生は反応　　が支配的であることを確かめた。さらに触媒活性は反応期間中にその触媒で処理したべンゼンの総量に対して対数的に低下するこに基づいて, 寿命の推定を行なった。
ISSN:0375-9253
DOI:10.1252/kakoronbunshu1953.34.402