ポリマーフィルムの洗浄および再付着防止機構

洗浄技術は、日常生活から一般工業分野に至るまで多岐に渡って活用されている。洗浄では、固体基質に腐食や変形などのダメージを与えることなく、最適な組成や手法を選択しなければならない。また、近年では低環境負荷材料への置き換えも訴求されている。本稿では、電子材料向けのポリマーフィルム（フォトレジスト）の洗浄に焦点を当て、溶媒や界面活性剤が及ぼす影響について多角的な分析手法を通して論じる。...

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Bibliographic Details
Published inColloid & Interface Communications Vol. 49; no. 2; pp. 32 - 35
Main Author 半澤, 将希
Format Journal Article
LanguageJapanese
Published 公益社団法人 日本化学会 コロイドおよび界面化学部会 10.05.2024
Division of Colloid and Surface Chemistry, CSJ
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ISSN2758-5379
DOI10.57534/cicommun.49.2_32

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Summary:洗浄技術は、日常生活から一般工業分野に至るまで多岐に渡って活用されている。洗浄では、固体基質に腐食や変形などのダメージを与えることなく、最適な組成や手法を選択しなければならない。また、近年では低環境負荷材料への置き換えも訴求されている。本稿では、電子材料向けのポリマーフィルム（フォトレジスト）の洗浄に焦点を当て、溶媒や界面活性剤が及ぼす影響について多角的な分析手法を通して論じる。
ISSN:2758-5379
DOI:10.57534/cicommun.49.2_32