噴射加工を用いた歯科用純チタン表面の清掃法に関する検討

インプラントの清掃において,従来から行われている,砥粒を噴射して,バイオフィ ルムを除去する方法は,チタンのアバットメントの表面粗さを大きくしてしまう.そこで著者らは,炭酸カルシウム粒子とWA砥粒を噴射させ,チタン表面のバイオフィ ルムを除去する方法について検討した.炭酸カルシウム粒子とWA砥粒の2種類の粒子を用いた.試験片の初期条件は,Ra=0.05μmとした.噴射条件は,噴射時間を 5,10,30秒とし,噴射距離50㎜,噴射圧力を0.5MPa,粒子供給量5g/secとした.模擬汚れとして,油性ペンを試験片に塗布した.噴射した結果,両方の粒子で模擬汚れを清掃することができた.しかし,両方の粒...

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Published in砥粒加工学会誌 Vol. 59; no. 11; pp. 649 - 650
Main Authors 白石, 智久, 佐藤, 秀明, 亀山, 雄高, 眞保, 良吉, 真柳, 弦, 佐々木, 啓一, 石幡, 浩志
Format Journal Article
LanguageJapanese
Published 社団法人 砥粒加工学会 2015
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Summary:インプラントの清掃において,従来から行われている,砥粒を噴射して,バイオフィ ルムを除去する方法は,チタンのアバットメントの表面粗さを大きくしてしまう.そこで著者らは,炭酸カルシウム粒子とWA砥粒を噴射させ,チタン表面のバイオフィ ルムを除去する方法について検討した.炭酸カルシウム粒子とWA砥粒の2種類の粒子を用いた.試験片の初期条件は,Ra=0.05μmとした.噴射条件は,噴射時間を 5,10,30秒とし,噴射距離50㎜,噴射圧力を0.5MPa,粒子供給量5g/secとした.模擬汚れとして,油性ペンを試験片に塗布した.噴射した結果,両方の粒子で模擬汚れを清掃することができた.しかし,両方の粒子でRaが大きく上昇し,光沢度は大きく 減少した.
ISSN:0914-2703
1880-7534
DOI:10.11420/jsat.59.649