ULSIデバイス作製プロセスにおけるプラズマ-固体表面相互作用
プラズマにより0.1μmレベルの微小な形状を高精度でエッチングするためには,プラズマにさらされたウエハー表面での物理化学現象,例えばプラズマ中で生成された活性種やイオンの表画での吸着・輸送・及応などに関する情報が不可欠となる.本稿では,ウエハー表面に入射する反応粒子,表面での笈1芯,および微細パターン内での粒子の輸送と反応過程に関するこれまでの情報をもとに,さらにエッチングの加工形状シミュレーションを通して,低圧力・高密度プラズマにさらされたウエハー表面に関する理解の現状と課題について解説する.具体例として,エッチングの微視的な均一性,特にエッチング速度や形状の微細パターンの幾何学的構造への依...
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| Published in | 応用物理 Vol. 68; no. 5; pp. 513 - 519 |
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| Main Author | |
| Format | Journal Article |
| Language | Japanese |
| Published |
公益社団法人 応用物理学会
1999
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| Online Access | Get full text |
| ISSN | 0369-8009 2188-2290 |
| DOI | 10.11470/oubutsu1932.68.513 |
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| Summary: | プラズマにより0.1μmレベルの微小な形状を高精度でエッチングするためには,プラズマにさらされたウエハー表面での物理化学現象,例えばプラズマ中で生成された活性種やイオンの表画での吸着・輸送・及応などに関する情報が不可欠となる.本稿では,ウエハー表面に入射する反応粒子,表面での笈1芯,および微細パターン内での粒子の輸送と反応過程に関するこれまでの情報をもとに,さらにエッチングの加工形状シミュレーションを通して,低圧力・高密度プラズマにさらされたウエハー表面に関する理解の現状と課題について解説する.具体例として,エッチングの微視的な均一性,特にエッチング速度や形状の微細パターンの幾何学的構造への依存性に焦点を当てる. |
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| ISSN: | 0369-8009 2188-2290 |
| DOI: | 10.11470/oubutsu1932.68.513 |