Röntgendiagnostik plasma‐gestützt abgeschiedener dünner Schichten

• Published in: Vakuum in Forschung und Praxis : Zeitschrift für Vakuumtechnologie, Oberflèachen und Dünne Schichten Vol. 19; no. 4; pp. 24 - 28
• Main Authors: Wulff, Harm, Quaas, Marion
• Format: Journal Article
• Language: English
• Published: Weinheim WILEY‐VCH Verlag 01.08.2007
• ISSN: 0947-076X; 1522-2454
• DOI: 10.1002/vipr.200700324

Wir haben gezeigt, dass die Röntgen‐Diffraktometrie im streifenden Einfall und die Röntgen‐Reflektometrie einzeln und besonders in Kombination leistungsfähige Werkzeuge zur Charakterisierung plasma‐gestützt abgeschiedener Schichten sind. Beide Methoden arbeiten zerstörungsfrei. Die Schichten sind damit sowohl weiteren Diagnostikverfahren als auch der weiteren Nutzung zugänglich. Die Bestimmung chemischer, kristallographischer und physikalischer Eigenschaften führt zu einem tieferen Verständnis der Plasma‐Wand‐Wechselwirkung und ermöglicht eine gezielte Beeinflussung und Qualitätsverbesserung plasma‐gestützt abgeschiedener Schichten. An drei Beispielen haben wir den Einfluss der Plasmaparameter auf die Phasenbildung, die Defektstrukturentstehung und auf kinetische Prozesse vorgestellt. X‐ray diagnostics of plasma deposited thin layers Grazing incidence x‐ray diffractometry (GIXD) and x‐ray reflectometry (XR) have been introduced as well suited tools for investigations of plasma deposited thin layers. They are non‐destructive techniques, therefore a sample can be reused and measured with other techniques. A combination of GIXD and XR can give a range of interesting information about chemical, physical and crystallographic properties of thin films. Conclusions can be drawn how plasma deposition techniques and plasma parameters influence the film growth. In three examples we present the analysis of phase and chemical composition, defect structure and measurements of kinetic process parameters.