注意缺陷多动障碍共患对立违抗障碍儿童大脑皮质形态学特点

• Published in: 中国心理卫生杂志 Vol. 38; no. 2; pp. 97 - 103
• Main Authors: 司飞飞, 刘璐, 李海梅, 董敏, 曹庆久, 孙黎, 钱秋谨, 王玉凤
• Format: Journal Article
• Language: Chinese
• Published: 中国心理卫生协会 10.02.2024; 北京大学第六医院,北京大学精神卫生研究所,国家卫生健康委员会精神卫生学重点实验室(北京大学),国家精神心理疾病临床医学研究中心(北京大学第六医院),北京 100083
• Subjects: 对立违抗障碍; 儿童注意缺陷多动障碍; 大脑皮质形态学; oppositional defiant disorder; cortical morphology; attention deficit hyperactivity disorder
• ISSN: 1000-6729
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6729.2024.02.001

目的：探讨注意缺陷多动障碍（ADHD）共患对立违抗障碍（ODD）儿童的大脑皮质形态学特点。方法：选取符合美国精神障碍诊断与统计手册第4版（DSM-IV）诊断标准的ADHD共患ODD儿童16例，不共患ODD的ADHD儿童20例，及性别、年龄匹配的36例正常对照儿童。采用中国修订韦氏儿童智力量表（C-WISC）评估智商。所有被试进行脑磁共振成像扫描及数据采集，采用FreeSurfer软件分析大脑皮质形态学指标。结果：ADHD伴ODD组[（6 528.1±857.5）mm3vs.（7 591.2±657.3）mm3]、ADHD不伴ODD组[（6 867.2±841.3）mm3vs.（7 591.2±657.3）mm3]左外侧颞上回脑区皮质体积均小于正常对照组（P<0.05），而ADHD伴ODD与ADHD不伴ODD两组间体积差异无统计学意义（P>0.05）；ADHD组左外侧颞上回脑区皮质体积与ODD症状的相关无统计学意义（P>0.05）。3组间皮质厚度、表面积和曲率差异无统计学意义（均P>0.05）。结论：左外侧颞上回皮质体积减小可能是ADHD儿童的重要脑结构异常指征，共患ODD未改变这一特点。