高硅Na-ZSM-5分子筛表面NO的常温吸附-氧化机理

采用程序升温表面反应（TPSR）和原位漫反射红外光谱（DRIFTS）等手段研究了常温下NO和O2在高硅Na-ZSM-5分子筛上吸附-氧化反应机理.结果表明,Na-ZSM-5分子筛上NO的催化氧化过程中伴随着显著的NO2物理吸附,表现为NO氧化和NO2吸附间的动态平衡.Na-ZSM-5分子筛表面NOx吸附物种的TPSR和原位DRIFTS表征表明,化学吸附的NO和气相中的O2在Na-ZSM-5表面反应生成吸附态的NO3,并继续与NO作用生成弱吸附的NO2和N2O4,它们吸附饱和后释放出来;其中,强吸附的NO3在NO氧化过程中起到了反应中间体的作用,同时也促进了NO的吸附....

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Published inChinese journal of catalysis Vol. 31; no. 10; pp. 1233 - 1241
Main Author 刘华彦 张泽凯 徐媛媛 陈银飞 李希
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 浙江大学化学工程与生物工程系,浙江,杭州,310027 2010
浙江工业大学化学工程与材料学院,浙江,杭州,310014%浙江工业大学化学工程与材料学院,浙江,杭州,310014%浙江大学化学工程与生物工程系,浙江,杭州,310027
Subjects
Na-ZSM-5分子筛
一氧化氮
吸附
氧化
氮氧化物
脱除
Na-ZSM-5分子筛
氮氧化物
氧化
一氧化氮
脱除
吸附
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Summary:采用程序升温表面反应（TPSR）和原位漫反射红外光谱（DRIFTS）等手段研究了常温下NO和O2在高硅Na-ZSM-5分子筛上吸附-氧化反应机理.结果表明,Na-ZSM-5分子筛上NO的催化氧化过程中伴随着显著的NO2物理吸附,表现为NO氧化和NO2吸附间的动态平衡.Na-ZSM-5分子筛表面NOx吸附物种的TPSR和原位DRIFTS表征表明,化学吸附的NO和气相中的O2在Na-ZSM-5表面反应生成吸附态的NO3,并继续与NO作用生成弱吸附的NO2和N2O4,它们吸附饱和后释放出来;其中,强吸附的NO3在NO氧化过程中起到了反应中间体的作用,同时也促进了NO的吸附.
Bibliography:nitric oxide
adsorption
O643
oxidation
removal
Na-ZSM-5 molecular sieve
21-1195/O6
nitrogen oxide
Na-ZSM-5 molecular sieve; nitric oxide; oxidation; nitrogen oxide; adsorption; removal
X7
ISSN:0253-9837
1872-2067
DOI:10.1016/S1872-2067(10)60117-9