氮掺杂二氧化钛－氧化镍双层薄膜的光电致色特性

以金属钛为靶材、O2/N2/Ar混合气氛为溅射气体，在导电玻璃（ITO）表面磁控溅射一层薄膜，再经300—500℃退火处理制备了氮掺杂TiO2薄膜．采用X射线衍射（XRD）、X光电子能谱（XPS）、扫描电子显微镜（SEM）和紫外．可见吸收光谱等对薄膜的微观结构、光学特性和光电化学性能等进行了研究．进而采用化学沉积的方法在TiO2-xNx薄膜表面沉积上一层多孔NiO薄膜，研究表明，制备的ITO／TiO2-xNx／NiO双层薄膜具有明显的光电致色特性，400℃退火处理的氮掺杂TiO。薄膜具有最高的光电流响应，经氙灯照射1h后，薄膜从无色变成棕色，500nm波长处光透过率从79．0％下降至12．6％...

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Published inWuli huaxue xuebao Vol. 26; no. 2; pp. 299 - 303
Main Author 蒋磊 黄辉 王春涛 张文魁 甘永平 陶新永
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 浙江工业大学化学工程与材料学院,杭州,310014%浙江海洋学院机电工程学院,浙江,舟山,316000 2010
Subjects
光电化学性能
光电致色
氧化镍
氮掺杂TiO2
薄膜
光电致色
NiO
N-dopedTiO_2
薄膜
氮掺杂TiO_2
Photoelectrochemicalproperty
Photoelectrochromism
氧化镍
光电化学性能
Thin film
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Summary:以金属钛为靶材、O2/N2/Ar混合气氛为溅射气体，在导电玻璃（ITO）表面磁控溅射一层薄膜，再经300—500℃退火处理制备了氮掺杂TiO2薄膜．采用X射线衍射（XRD）、X光电子能谱（XPS）、扫描电子显微镜（SEM）和紫外．可见吸收光谱等对薄膜的微观结构、光学特性和光电化学性能等进行了研究．进而采用化学沉积的方法在TiO2-xNx薄膜表面沉积上一层多孔NiO薄膜，研究表明，制备的ITO／TiO2-xNx／NiO双层薄膜具有明显的光电致色特性，400℃退火处理的氮掺杂TiO。薄膜具有最高的光电流响应，经氙灯照射1h后，薄膜从无色变成棕色，500nm波长处光透过率从79．0％下降至12．6％．
Bibliography:11-1892/06
Photoelectrochromism; N-doped TiO2; NiO; Photoelectrochemical property; Thin film
NiO
Photoelectrochemical property
N-doped TiO2
Photoelectrochromism
O646
Thin film
ISSN:1000-6818