高能劳厄单色器晶体压弯性能的研究

上海光源二期工程拟建的超硬多功能线站将采用一台弧矢聚焦高能劳厄单色器，晶体压弯机构是单色器的核心部件，晶体弧矢半径与子午半径的优化对单色器的光通量和分辨率有很大影响。本文利用有限元软件分析了影响劳厄晶体压弯性能的主要因素——斜切晶体的各向异性以及晶体的长宽比。通过分析，确定了硅晶体切割边为[011]方向和[0—11]方向，晶体的优化尺寸为90min×40mn3×1mm。硅晶体表面的弧矢和子午面形误差（均方根）分别为3．02μrad和1．25μrad，满足设计要求。...

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Published in核技术 Vol. 40; no. 1; pp. 1 - 5
Main Author 张海云 祝万钱 秦宏亮 薛松
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 中国科学院上海应用物理研究所 张江园区 上海201204 2017
中国科学院大学 北京 100049%中国科学院上海应用物理研究所 张江园区 上海201204
Subjects
劳厄单色器
压弯机构
各向异性
有限元分析
长宽比
压弯机构
FEA
Bender
有限元分析
Anisotropy
Laue crystal monochromator
各向异性
长宽比
劳厄单色器
Aspect ratio
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Summary:上海光源二期工程拟建的超硬多功能线站将采用一台弧矢聚焦高能劳厄单色器，晶体压弯机构是单色器的核心部件，晶体弧矢半径与子午半径的优化对单色器的光通量和分辨率有很大影响。本文利用有限元软件分析了影响劳厄晶体压弯性能的主要因素——斜切晶体的各向异性以及晶体的长宽比。通过分析，确定了硅晶体切割边为[011]方向和[0—11]方向，晶体的优化尺寸为90min×40mn3×1mm。硅晶体表面的弧矢和子午面形误差（均方根）分别为3．02μrad和1．25μrad，满足设计要求。
Bibliography:Laue crystal monochromator, Bender, Anisotropy, Aspect ratio, FEA
31-1342/TL
Background： A water-cooled high energy double Laue crystal monochromator （DLM） will be employed on ultra-hard applications beamline to be built in phase II project at Shanghai Synchrotron Radiation Facility （SSRF）. Its crystal bending performance is very important for satisfying design requirements. Purpose： This study aims to find appropriate coupled meridional and sagittal bending of the bender, to obtain optimal the monochromatic beam flux and energy resolution. Methods： The rigidity matrix of the crystal was calculated by using MATLAB. Two main factors, anisotropic elasticity of the asymmetric-cut crystal and aspect ratio, are considered to optimize the crystal bendings by finite element analysis （FEA） using ANSYS Workbench. Results ＆ Conclusion： Analysis results show the cutting edge of crystal length and width goes along the [011] and [0-11] direction, respectively. The optimized crystal geometry is 90 mm×40 min×1 mm. Furthermore
ISSN:0253-3219
DOI:10.11889/j.0253-3219.2017.hjs.40.010101