掺钇纳米NiO的制备及其超大电容性能研究
O646%TM911; 应用化学共沉淀法制备掺Y的纳米NiO.XRD分析表明,Y的添加不改变 NiO的晶体结构,但晶粒尺寸有所减小.利用恒流充放电、循环伏安和交流阻抗等测试方法对Y-NiO电极材料在5 mol·L-1KOH溶液中作电化学性能测试.结果表明,化学掺杂提高了电极的比容量,当NiO与Y2O3的质量比为1:0.1时,单电极放电比容量可达到363 F·g-1,比纯氧化镍电极提高了2.02倍.交流阻抗测试显示,Y掺杂降低了电解液在电极中的扩散阻力,提高了质子扩散能力,从而表现了更好的电容性能....
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Published in | 电化学 Vol. 12; no. 3; pp. 333 - 337 |
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Main Authors | , , , , , |
Format | Journal Article |
Language | Chinese |
Published |
哈尔滨工程大学化工学院,黑龙江,哈尔滨,150001%吉林化工学院,吉林,吉林,132022
2006
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Summary: | O646%TM911; 应用化学共沉淀法制备掺Y的纳米NiO.XRD分析表明,Y的添加不改变 NiO的晶体结构,但晶粒尺寸有所减小.利用恒流充放电、循环伏安和交流阻抗等测试方法对Y-NiO电极材料在5 mol·L-1KOH溶液中作电化学性能测试.结果表明,化学掺杂提高了电极的比容量,当NiO与Y2O3的质量比为1:0.1时,单电极放电比容量可达到363 F·g-1,比纯氧化镍电极提高了2.02倍.交流阻抗测试显示,Y掺杂降低了电解液在电极中的扩散阻力,提高了质子扩散能力,从而表现了更好的电容性能. |
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ISSN: | 1006-3471 |
DOI: | 10.3969/j.issn.1006-3471.2006.03.020 |