SHA和TT-LYK在钴基阻挡层集成电路CMP中的协同作用 - 方淇; 潘国峰; 杨雪妍; 胡连军 (应用化工, 2024)
Keywords: 络合剂; 腐蚀; corrosion; 化学机械平坦化; complexing agent; chemical mechanical planarization; SHA; TT-LYK