氧氩比对ZnO薄膜微观结构及光电特性的影响

TB43; 采用JGP300型超高真空磁控溅射系统,在蓝宝石(Al2O3)、p-Si和氧化铟锡(ITO)导电玻璃衬底上制备了ZnO薄膜.使用X射线衍射仪(XRD)、紫外分光光度计(UV)、原子力显微镜(AFM)分析了氧氩比对ZnO薄膜晶体结构、光学特性和表面形貌的影响.测试结果表明:ZnO薄膜均为单一六方纤锌矿结构,且均表现出c轴择优取向.随着氧氩比的减小,ZnO(002)衍射峰强度增大,衍射峰半高宽(FWHM)减小.氧氩比为1:4条件下制备的ZnO薄膜结晶质量较好.随着氧氩比的增大,ZnO薄膜表面粗糙度先增大后减小.在可见光范围内(波长400～700 nm),氧氩比为3:2条件下制备的ZnO...

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Published in河南科技大学学报（自然科学版） Vol. 40; no. 6; pp. 80 - 88
Main Authors 张猛, 付宏远, 孙艳艳, 赵洋, 王辉
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 河南科技大学物理工程学院,河南 洛阳 471023 2019
河南科技大学河南省光电储能材料与应用重点实验室,河南 洛阳 471023
Subjects
氧氩比
光电学特性
ZnO
磁控溅射
薄膜结构
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ISSN1672-6871
DOI10.15926/j.cnki.issn1672-6871.2019.06.014

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Summary:TB43; 采用JGP300型超高真空磁控溅射系统,在蓝宝石(Al2O3)、p-Si和氧化铟锡(ITO)导电玻璃衬底上制备了ZnO薄膜.使用X射线衍射仪(XRD)、紫外分光光度计(UV)、原子力显微镜(AFM)分析了氧氩比对ZnO薄膜晶体结构、光学特性和表面形貌的影响.测试结果表明:ZnO薄膜均为单一六方纤锌矿结构,且均表现出c轴择优取向.随着氧氩比的减小,ZnO(002)衍射峰强度增大,衍射峰半高宽(FWHM)减小.氧氩比为1:4条件下制备的ZnO薄膜结晶质量较好.随着氧氩比的增大,ZnO薄膜表面粗糙度先增大后减小.在可见光范围内(波长400～700 nm),氧氩比为3:2条件下制备的ZnO薄膜,平均透过率超过70％.
ISSN:1672-6871
DOI:10.15926/j.cnki.issn1672-6871.2019.06.014