表面共价膜抑制黄铁矿光腐蚀动力学试验

X52%X53%X75; 酸性矿山废水(AMD)主要由尾矿中黄铁矿被腐蚀产酸所造成,太阳光照是不容忽视的重要因素.黄铁矿的光腐蚀过程会导致AMD浸出风险增大.利用三乙烯四胺二硫代氨基甲酸钠(DTC-TETA)在黄铁矿表面形成共价钝化膜,光照条件下,总铁浸出抑制率为99.6％,Fe3+浸出抑制率达到100％.扫描电子显微镜-能量色散X射线光谱(SEM-EDS)、X射线衍射光谱(XRD)和透射电子显微镜(TEM)表征表明,DTC-TETA稳定了光化学反应中黄铁矿的结构.DTC-TETA在黄铁矿表面通过含N基团的给电子特性,消耗了AMD浸出模拟液中光致活性氧自由基(ROS,·OH),光照10 h以内...

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Published in桂林理工大学学报 Vol. 42; no. 1; pp. 196 - 203
Main Authors 杜海杰, 舒小华, 于晓章
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 桂林理工大学 环境科学与工程学院,广西 桂林 541006%桂林理工大学 环境科学与工程学院,广西 桂林 541006 2022
桂林理工大学 广西环境污染控制理论与技术重点实验室,广西 桂林 541006
Subjects
三乙烯四胺二硫代氨基甲酸钠
黄铁矿
酸性矿山废水
光腐蚀
共价钝化膜
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ISSN1674-9057
DOI10.3969/j.issn.1674-9057.2022.01.022

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Abstract X52%X53%X75; 酸性矿山废水(AMD)主要由尾矿中黄铁矿被腐蚀产酸所造成,太阳光照是不容忽视的重要因素.黄铁矿的光腐蚀过程会导致AMD浸出风险增大.利用三乙烯四胺二硫代氨基甲酸钠(DTC-TETA)在黄铁矿表面形成共价钝化膜,光照条件下,总铁浸出抑制率为99.6％,Fe3+浸出抑制率达到100％.扫描电子显微镜-能量色散X射线光谱(SEM-EDS)、X射线衍射光谱(XRD)和透射电子显微镜(TEM)表征表明,DTC-TETA稳定了光化学反应中黄铁矿的结构.DTC-TETA在黄铁矿表面通过含N基团的给电子特性,消耗了AMD浸出模拟液中光致活性氧自由基(ROS,·OH),光照10 h以内·OH生成速率先增大后降低,抑制了金属半导体尾矿的光化学腐蚀反应.
AbstractList X52%X53%X75; 酸性矿山废水(AMD)主要由尾矿中黄铁矿被腐蚀产酸所造成,太阳光照是不容忽视的重要因素.黄铁矿的光腐蚀过程会导致AMD浸出风险增大.利用三乙烯四胺二硫代氨基甲酸钠(DTC-TETA)在黄铁矿表面形成共价钝化膜,光照条件下,总铁浸出抑制率为99.6％,Fe3+浸出抑制率达到100％.扫描电子显微镜-能量色散X射线光谱(SEM-EDS)、X射线衍射光谱(XRD)和透射电子显微镜(TEM)表征表明,DTC-TETA稳定了光化学反应中黄铁矿的结构.DTC-TETA在黄铁矿表面通过含N基团的给电子特性,消耗了AMD浸出模拟液中光致活性氧自由基(ROS,·OH),光照10 h以内·OH生成速率先增大后降低,抑制了金属半导体尾矿的光化学腐蚀反应.
Author 舒小华
杜海杰
于晓章
AuthorAffiliation 桂林理工大学 环境科学与工程学院,广西 桂林 541006%桂林理工大学 环境科学与工程学院,广西 桂林 541006;桂林理工大学 广西环境污染控制理论与技术重点实验室,广西 桂林 541006
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