PACKING ELEMENT, IN PARTICULAR FOR SHUTTING-OFF AND REGULATING MEANS, AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME

Die Erfindung betrifft ein Dichtungselement und ein Verfahren zur Herstellung des Dichtungselementes, insbesondere für Absperr- und Regelorgane. Es besteht aus einem plattenförmigen, kolbenförmigen oder kugelförmigen Absperrkörper aus einem metallischen oder nicht-metallischen Werkstoff, beispielswe...

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Main Authors KLEINHANS, WERNER, BECHTE, VEIT
Format Patent
LanguageEnglish
French
German
Published 30.05.1996
Edition6
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Summary:Die Erfindung betrifft ein Dichtungselement und ein Verfahren zur Herstellung des Dichtungselementes, insbesondere für Absperr- und Regelorgane. Es besteht aus einem plattenförmigen, kolbenförmigen oder kugelförmigen Absperrkörper aus einem metallischen oder nicht-metallischen Werkstoff, beispielsweise A12O3-Keramik. Auf einer Arbeitsfläche des Absperrkörpers wird im Wege, z.B. der Plasma-CVD eine Hartstoffschicht aufgetragen, die aus einem Haftschichtanteil und einem Gleitschichtanteil besteht. Vorher wird durch ein Sputter-Verfahren die Arbeitsfläche des Absperrkörpers physikalisch mit Argon geätzt. Beim Umschalten des Ätzprozesses auf den Prozess zum Auftragen des Haftschichtanteils und auch beim anschliessenden Umschalten auf den Prozess zum Auftragen des Gleitschichtanteils werden die Prozessparameter derart besonders geführt, dass jeweils bestimmte Gradientenübergänge zwischen den Prozessschritten erzielt werden, um die Haftung der Hartstoffschicht an der Arbeitsfläche des Absperrkörpers wesentlich zu verbessern. A packing element, in particular for shutting-off and regulating means, consists of a plate-like, piston-like or ball-like shutting-off body made of a metallic or non-metallic material, for example an Al2O3 ceramic material. A hard layer is deposited for example by a plasma CVD process on a working surface of the shutting-off body. The hard layer has an adhesive layer portion and a sliding layer portion. The working surface of the shutting-off body is physically etched in advance by an argon sputtering process. When switching from the etching process to the adhesive layer portion application process, and also subsequently to the sliding layer portion application process, the process parameters are regulated to achieve determined gradients between the various process steps. This substantially improves the adhesiveness of the hard layer to the working surface of the shutting-off body. Un élément d'étanchéité, notamment pour organes d'obturation et de régulation, comprend un corps d'obturation en forme de plaquette, de piston ou de bille en un matériau métallique ou non métallique, par exemple un matériau céramique en Al2O3. Une couche dure constituée d'une couche d'adhérence et d'une couche de glissement est déposée par exemple par un procédé de déposition chimique en phase vapeur au plasma sur une surface de travail du corps d'obturation. La surface de travail du corps d'obturation est physiquement mordancée au préalable avec de l'argon par un procédé de pulvérisation. Lorsque l'on passe du mordançage à l'application de la couche d'adhérence, puis à l'application de la couche de glissement, on règle les paramètres du processus de façon à créer des gradients déterminés entre les différentes étapes du processus, ce qui permet d'améliorer sensiblement l'adhérence de la couche dure à la surface de travail du corps d'obturation.
Bibliography:Application Number: WO1995EP04536