IMPROVED DEPOSITION MAPPING LAYOUT FOR AN AUTONOMOUS GROUND DEPOSITION MACHINE AND METHOD THEREOF
A method for mapping the deposition of a material onto a ground surface by an autonomous deposition machine, and an autonomous deposition machine operable to carry out the method, the method comprising: a user selecting at least one region of a surface for a material deposition; a user selecting at...
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Format | Patent |
Language | English French |
Published |
05.10.2023
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Summary: | A method for mapping the deposition of a material onto a ground surface by an autonomous deposition machine, and an autonomous deposition machine operable to carry out the method, the method comprising: a user selecting at least one region of a surface for a material deposition; a user selecting at least one material for the deposition and applying that material to the at least one region; and processing the selection of the at least one region and the at least one material to derive one or more deposition instructions for depositing one or more materials to the at least one region of the surface. Thus, improving the accuracy of the deposition of the deposition of material, for example in image printing or fertiliser deposition. This allows the optimisation of material deposition, and material use, minimising environmental impact with no compromise to quality of finished product, e.g. a fertilised pitch.
L'invention concerne un procédé de cartographie du dépôt d'un matériau sur une surface au sol par une machine de dépôt autonome, et une machine de dépôt autonome utilisable pour mettre en œuvre le procédé, le procédé comprenant les étapes suivantes dans lesquelles : un utilisateur sélectionne au moins une région d'une surface à des fins de dépôt de matériau ; un utilisateur sélectionne au moins un matériau pour le dépôt et applique ce matériau sur ladite région ; et traite la sélection de ladite région et dudit matériau pour dériver une ou plusieurs instructions de dépôt à des fins de dépôt d'un ou plusieurs matériaux sur ladite région de la surface. L'invention permet ainsi d'améliorer la précision de dépôt du dépôt de matériau, par exemple lors d'une impression d'image ou d'un dépôt d'engrais. Ceci permet l'optimisation d'un dépôt de matériau et de l'utilisation de matériau, réduisant ainsi au minimum un impact environnemental sans compromis sur la qualité du produit fini, par exemple d'un terrain fertilisé. |
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Bibliography: | Application Number: WO2023GB50810 |