PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD

• Main Authors: YAMAMOTO, Hiroki, HATTORI, Shigeki
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 28.09.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

This photosensitive composition includes a tin compound which has three hydrocarbon groups that may have substituent groups and in which a pyridinedicarboxylic acid serves as a ligand. This pattern formation method comprises: a step for forming a photosensitive layer on a substrate by using the photosensitive composition; a step for irradiating a prescribed area of the photosensitive layer with chemoradiation so as to perform pattern exposure; and a step for subjecting the post-exposure photosensitive layer to a development process by a developing solution and selectively removing an exposed part or an unexposed part of the photosensitive layer. La présente composition photosensible comprend un composé d'étain qui a trois groupes hydrocarbonés qui peuvent avoir des groupes substituants et dans lequel un acide pyridinedicarboxylique sert de ligand. Ce procédé de formation de motif comprend : une étape consistant à former une couche photosensible sur un substrat à l'aide de la composition photosensible ; une étape consistant à irradier une zone prescrite de la couche photosensible par chimio-radiothérapie de façon à effectuer une exposition de motif ; et une étape consistant à soumettre la couche photosensible post-exposition à un processus de développement effectué par une solution de développement et à éliminer sélectivement une partie exposée ou une partie non exposée de la couche photosensible. ピリジンジカルボン酸を配位子とし、置換基を有していても良い炭化水素基を３つ有するスズ化合物を含む感光性組成物。この感光性組成物を用いて基板上に感光性層を形成する工程と、該感光性層の所定の領域に化学放射線を照射してパターン露光する工程と、該露光後の該感光性層を現像液で現像処理して、該感光性層の露光部又は未露光部を選択的に除去する工程とを具備するパターン形成方法。