SURFACE TREATMENT METHOD

[Problem] Provided is a surface treatment method with which the formation of an oxide film is suppressed while the removal performance of the surface of an object to be treated is ensured by a simple process. [Solution] This surface treatment method involves removing a surface of an object O to be t...

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Main Authors SUIZU Yoshiaki, HARAGUCHI Manabu
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 19.05.2023
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Abstract [Problem] Provided is a surface treatment method with which the formation of an oxide film is suppressed while the removal performance of the surface of an object to be treated is ensured by a simple process. [Solution] This surface treatment method involves removing a surface of an object O to be treated by moving a beam spot BS, obtained by condensing continuous-wave laser beams B on an irradiation target surface of the object, with respect to the irradiation target surface, wherein an irradiation time when the beam spot passes through one point on the irradiation target surface is at most 20 μs, and the relative velocity of the beam spot to the irradiation target surface is at least 3 m/s. Le problème décrit par la présente invention est de fournir un procédé de traitement de surface permettant de supprimer la formation d'un film d'oxyde tout en garantissant les performances d'élimination de la surface d'un objet à traiter par un processus simple. La solution selon l'invention porte sur un procédé de traitement de surface qui consiste à éliminer une surface d'un objet O à traiter par déplacement d'un point de faisceau BS, obtenu par condensation de faisceaux laser à ondes continues B sur une surface cible d'exposition au rayonnement de l'objet, par rapport à la surface cible d'exposition au rayonnement, un temps d'exposition au rayonnement lorsque le point de faisceau passe à travers un point sur la surface cible d'exposition au rayonnement étant au plus de 20 µs et la vitesse relative du point de faisceau par rapport à la surface cible d'exposition au rayonnement étant au moins de 3 m/s. 【課題】簡単な工程により処理対象物の表面の除去性能を確保しつつ酸化被膜の形成を抑制した表面処理方法を提供する。 【解決手段】処理対象物Oの被照射面に連続波のレーザ光Bを集光したビームスポットBSを被照射面に対して移動させることで処理対象物の表面を除去する表面処理方法を、被照射面上における1点をビームスポットが一回通過する際の照射時間が20μs以下であり、ビームスポットの被照射面に対する相対速度が3m/s以上である構成とする。
AbstractList [Problem] Provided is a surface treatment method with which the formation of an oxide film is suppressed while the removal performance of the surface of an object to be treated is ensured by a simple process. [Solution] This surface treatment method involves removing a surface of an object O to be treated by moving a beam spot BS, obtained by condensing continuous-wave laser beams B on an irradiation target surface of the object, with respect to the irradiation target surface, wherein an irradiation time when the beam spot passes through one point on the irradiation target surface is at most 20 μs, and the relative velocity of the beam spot to the irradiation target surface is at least 3 m/s. Le problème décrit par la présente invention est de fournir un procédé de traitement de surface permettant de supprimer la formation d'un film d'oxyde tout en garantissant les performances d'élimination de la surface d'un objet à traiter par un processus simple. La solution selon l'invention porte sur un procédé de traitement de surface qui consiste à éliminer une surface d'un objet O à traiter par déplacement d'un point de faisceau BS, obtenu par condensation de faisceaux laser à ondes continues B sur une surface cible d'exposition au rayonnement de l'objet, par rapport à la surface cible d'exposition au rayonnement, un temps d'exposition au rayonnement lorsque le point de faisceau passe à travers un point sur la surface cible d'exposition au rayonnement étant au plus de 20 µs et la vitesse relative du point de faisceau par rapport à la surface cible d'exposition au rayonnement étant au moins de 3 m/s. 【課題】簡単な工程により処理対象物の表面の除去性能を確保しつつ酸化被膜の形成を抑制した表面処理方法を提供する。 【解決手段】処理対象物Oの被照射面に連続波のレーザ光Bを集光したビームスポットBSを被照射面に対して移動させることで処理対象物の表面を除去する表面処理方法を、被照射面上における1点をビームスポットが一回通過する際の照射時間が20μs以下であり、ビームスポットの被照射面に対する相対速度が3m/s以上である構成とする。
Author SUIZU Yoshiaki
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