FLUORINE-CONTAINING PYRAZOLE COMPOUND AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
Provided are: a novel fluorine-containing pyrazole compound having a halogen atom, an oxygen-containing substituent, or a nitrogen-containing substituent at the 3-position, a trifluoromethyl group at the 4-position, and an oxygen-containing substituent at the 5-position; and a production method by w...
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Main Authors | , , |
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Format | Patent |
Language | English French Japanese |
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27.04.2023
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Abstract | Provided are: a novel fluorine-containing pyrazole compound having a halogen atom, an oxygen-containing substituent, or a nitrogen-containing substituent at the 3-position, a trifluoromethyl group at the 4-position, and an oxygen-containing substituent at the 5-position; and a production method by which said fluorine-containing pyrazole compound can be simply produced.Provided are: a novel fluorine-containing pyrazole compound having a halogen atom, an oxygen-containing substituent, or a nitrogen-containing substituent at the 3-position, a trifluoromethyl group at the 4-position, and an oxygen-containing substituent at the 5-position; and a production method by which said fluorine-containing pyrazole compound can be simply produced. The fluorine-containing pyrazole compound is represented by general formula (1). (In general formula (1), R represents a C1-C12 hydrocarbon group, X represents a halogen atom, a heterocyclic group containing, as a ring atom, at least one heteroatom selected from the group consisting of nitrogen and oxygen, -OA1, or -NA1A2, and A1 and A2 each independently represent a hydrogen atom or a C1-C10 organic group)
L'invention concerne : un nouveau composé pyrazole contenant du fluor ayant un atome d'halogène, un substituant contenant de l'oxygène, ou un substituant contenant de l'azote en position 3, un groupe trifluorométhyle en position 4, et un substituant contenant de l'oxygène en position 5 ; et un procédé de production au moyen duquel ledit composé pyrazole contenant du fluor peut être produit de manière simple : un nouveau composé pyrazole contenant du fluor ayant un atome d'halogène, un substituant contenant de l'oxygène, ou un substituant contenant de l'azote en position 3, un groupe trifluorométhyle en position 4, et un substituant contenant de l'oxygène en position 5 ; et un procédé de production au moyen duquel ledit composé pyrazole contenant du fluor peut être produit de manière simple. Le composé de pyrazole contenant du fluor est représenté par la formule générale (1). (Dans la formule générale (1), R représente un groupe hydrocarboné en C1-C12, X représente un atome d'halogène, un groupe hétérocyclique contenant, en tant qu'atome de cycle, au moins un hétéroatome choisi dans le groupe constitué par l'azote et l'oxygène, -OA1 ou -NA1A2 et A1 et A2 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe organique en C1-C10).
3位にハロゲン原子、含酸素置換基、または含窒素置換基、4位にトリフルオロメチル基、5位に含酸素置換基を有する新規な含フッ素ピラゾール化合物、および、該含フッ素ピラゾール化合物を簡易的に製造することが可能な製造方法を提供すること。 下記一般式(1)で表される、含フッ素ピラゾール化合物。(上記一般式(1)において、Rは炭素数1~12の炭化水素基を表し、Xは、ハロゲン原子、窒素および酸素からなる群から選択される少なくとも一種のヘテロ原子を環原子として含む複素環基、-OA1、または-NA1A2を表し、A1、A2はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数1~10の有機基を表す) |
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AbstractList | Provided are: a novel fluorine-containing pyrazole compound having a halogen atom, an oxygen-containing substituent, or a nitrogen-containing substituent at the 3-position, a trifluoromethyl group at the 4-position, and an oxygen-containing substituent at the 5-position; and a production method by which said fluorine-containing pyrazole compound can be simply produced.Provided are: a novel fluorine-containing pyrazole compound having a halogen atom, an oxygen-containing substituent, or a nitrogen-containing substituent at the 3-position, a trifluoromethyl group at the 4-position, and an oxygen-containing substituent at the 5-position; and a production method by which said fluorine-containing pyrazole compound can be simply produced. The fluorine-containing pyrazole compound is represented by general formula (1). (In general formula (1), R represents a C1-C12 hydrocarbon group, X represents a halogen atom, a heterocyclic group containing, as a ring atom, at least one heteroatom selected from the group consisting of nitrogen and oxygen, -OA1, or -NA1A2, and A1 and A2 each independently represent a hydrogen atom or a C1-C10 organic group)
L'invention concerne : un nouveau composé pyrazole contenant du fluor ayant un atome d'halogène, un substituant contenant de l'oxygène, ou un substituant contenant de l'azote en position 3, un groupe trifluorométhyle en position 4, et un substituant contenant de l'oxygène en position 5 ; et un procédé de production au moyen duquel ledit composé pyrazole contenant du fluor peut être produit de manière simple : un nouveau composé pyrazole contenant du fluor ayant un atome d'halogène, un substituant contenant de l'oxygène, ou un substituant contenant de l'azote en position 3, un groupe trifluorométhyle en position 4, et un substituant contenant de l'oxygène en position 5 ; et un procédé de production au moyen duquel ledit composé pyrazole contenant du fluor peut être produit de manière simple. Le composé de pyrazole contenant du fluor est représenté par la formule générale (1). (Dans la formule générale (1), R représente un groupe hydrocarboné en C1-C12, X représente un atome d'halogène, un groupe hétérocyclique contenant, en tant qu'atome de cycle, au moins un hétéroatome choisi dans le groupe constitué par l'azote et l'oxygène, -OA1 ou -NA1A2 et A1 et A2 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe organique en C1-C10).
3位にハロゲン原子、含酸素置換基、または含窒素置換基、4位にトリフルオロメチル基、5位に含酸素置換基を有する新規な含フッ素ピラゾール化合物、および、該含フッ素ピラゾール化合物を簡易的に製造することが可能な製造方法を提供すること。 下記一般式(1)で表される、含フッ素ピラゾール化合物。(上記一般式(1)において、Rは炭素数1~12の炭化水素基を表し、Xは、ハロゲン原子、窒素および酸素からなる群から選択される少なくとも一種のヘテロ原子を環原子として含む複素環基、-OA1、または-NA1A2を表し、A1、A2はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数1~10の有機基を表す) |
Author | SEINO Junya KOKIN Keisuke AOTSU Rie |
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