DRY DEVELOPMENT APPARATUS AND METHODS FOR VOLATILIZATION OF DRY DEVELOPMENT BYPRODUCTS IN WAFERS

• Main Authors: TAN, Samantha S.H, HUBACEK, Jerome S, KANAKASABAPATHY, Sivananda Krishnan, PETER, Daniel
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 22.12.2022
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

Disclosed herein are radiative heating systems and methods for use with dry development processes. Such systems and methods may, in some instances, allow for volatile halides that may be trapped on the surface of a wafer after dry development processing has completed to be driven out of the wafer through radiative heating thereof. Such systems and methods may, in some instances, be provided in an in-situ context in which the wafers being heated are radiatively heated within the same chamber as the dry development process is performed. In other contexts, such radiative heating may be performed in other locations, e.g., as the wafer transits from the processing chamber to another chamber or in another chamber entirely. L'invention concerne des systèmes et des procédés de chauffage par rayonnement destinés à être utilisés avec des processus de développement à sec. De tels systèmes et procédés peuvent, dans certains cas, permettre que des halogénures volatils qui peuvent être piégés sur la surface d'une tranche après que le traitement de développement à sec ait été effectué soient expulsés de la tranche en chauffant cette dernière par rayonnement. De tels systèmes et procédés peuvent, dans certains cas, être fournis dans un contexte in situ dans lequel les tranches qui sont chauffées sont chauffées par rayonnement dans la même chambre dans laquelle le processus de développement à sec est effectué. Dans d'autres contextes, un tel chauffage par rayonnement peut être effectué à d'autres endroits, par exemple lorsque la tranche transite de la chambre de traitement vers une autre chambre ou dans une autre chambre totalement distincte.