MAGNETIC FIELD APPLICATION DEVICE

A magnetic field application device (1) which applies a magnetic field to magnetic calorific material comprises: a magnetic field generation component (10); a first yoke (11) connected to both poles of the magnetic field generation component (10); and a second yoke (12) disposed so as to be movable...

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Main Authors OGASAHARA, Atsushi, SHINOZAKI, Masaru, TONOOKA, Shun
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 06.10.2022
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Abstract A magnetic field application device (1) which applies a magnetic field to magnetic calorific material comprises: a magnetic field generation component (10); a first yoke (11) connected to both poles of the magnetic field generation component (10); and a second yoke (12) disposed so as to be movable between a first position and a second position. A first closed magnetic path (41) formed by the magnetic field generation component (10) and the first yoke (11) passes through a magnetic field application region (R) in which magnetic calorific material is stored. A second closed magnetic path (42) formed by the magnetic field generation component (10), the first yoke (11), and the second yoke (12) bypasses the magnetic field application region (R). The relative positional relationship between the magnetic field generation component (10), the first yoke (11), and the magnetic field application region (R) is constant. The magnetic resistance of the second closed magnetic path (42) when the second yoke (12) is in the second position is less than the magnetic resistance of the second closed magnetic path (42) when the second yoke (12) is in the first position. La présente invention concerne un dispositif d'application de champ magnétique (1) qui applique un champ magnétique à un matériau caloporteur magnétique qui comprend : un composant de génération de champ magnétique (10) ; une première culasse (11) connectée aux deux pôles du composant de génération de champ magnétique (10) ; et une deuxième culasse (12) disposée de façon à être mobile entre une première position et une deuxième position. Un premier trajet magnétique fermé (41) formé par le composant de génération de champ magnétique (10) et la première culasse (11) traverse une région d'application de champ magnétique (R) dans laquelle un matériau calorifique magnétique est stocké. Un deuxième trajet magnétique fermé (42) formé par le composant de génération de champ magnétique (10), la première culasse (11) et la deuxième culasse (12) contourne la région d'application de champ magnétique (R). La relation de position relative entre le composant de génération de champ magnétique (10), la première culasse (11) et la région d'application de champ magnétique (R) est constante. La résistance magnétique du deuxième trajet magnétique fermé (42) lorsque la deuxième culasse (12) est dans la deuxième position est inférieure à la résistance magnétique du deuxième trajet magnétique fermé (42) lorsque la deuxième culasse (12) est dans la première position. 磁気熱量材料に磁場を印加する磁場印加装置(1)は、磁場発生部品(10)と、磁場発生部品(10)の両極に接続される第1ヨーク(11)と、第1位置と第2位置との間で移動可能に配置される第2ヨーク(12)と、を備える。磁場発生部品(10)と第1ヨーク(11)とによって形成される第1閉磁路(41)は、磁気熱量材料が収納される磁場印加領域(R)を通過する。磁場発生部品(10)と第1ヨーク(11)と第2ヨーク(12)とによって形成される第2閉磁路(42)は、磁場印加領域(R)を迂回する。磁場発生部品(10)と第1ヨーク(11)と磁場印加領域(R)との相対位置関係は一定である。第2ヨーク(12)が第2位置に位置するときの第2閉磁路(42)の磁気抵抗は、第2ヨーク(12)が第1位置に位置するときの第2閉磁路(42)の磁気抵抗よりも小さい。
AbstractList A magnetic field application device (1) which applies a magnetic field to magnetic calorific material comprises: a magnetic field generation component (10); a first yoke (11) connected to both poles of the magnetic field generation component (10); and a second yoke (12) disposed so as to be movable between a first position and a second position. A first closed magnetic path (41) formed by the magnetic field generation component (10) and the first yoke (11) passes through a magnetic field application region (R) in which magnetic calorific material is stored. A second closed magnetic path (42) formed by the magnetic field generation component (10), the first yoke (11), and the second yoke (12) bypasses the magnetic field application region (R). The relative positional relationship between the magnetic field generation component (10), the first yoke (11), and the magnetic field application region (R) is constant. The magnetic resistance of the second closed magnetic path (42) when the second yoke (12) is in the second position is less than the magnetic resistance of the second closed magnetic path (42) when the second yoke (12) is in the first position. La présente invention concerne un dispositif d'application de champ magnétique (1) qui applique un champ magnétique à un matériau caloporteur magnétique qui comprend : un composant de génération de champ magnétique (10) ; une première culasse (11) connectée aux deux pôles du composant de génération de champ magnétique (10) ; et une deuxième culasse (12) disposée de façon à être mobile entre une première position et une deuxième position. Un premier trajet magnétique fermé (41) formé par le composant de génération de champ magnétique (10) et la première culasse (11) traverse une région d'application de champ magnétique (R) dans laquelle un matériau calorifique magnétique est stocké. Un deuxième trajet magnétique fermé (42) formé par le composant de génération de champ magnétique (10), la première culasse (11) et la deuxième culasse (12) contourne la région d'application de champ magnétique (R). La relation de position relative entre le composant de génération de champ magnétique (10), la première culasse (11) et la région d'application de champ magnétique (R) est constante. La résistance magnétique du deuxième trajet magnétique fermé (42) lorsque la deuxième culasse (12) est dans la deuxième position est inférieure à la résistance magnétique du deuxième trajet magnétique fermé (42) lorsque la deuxième culasse (12) est dans la première position. 磁気熱量材料に磁場を印加する磁場印加装置(1)は、磁場発生部品(10)と、磁場発生部品(10)の両極に接続される第1ヨーク(11)と、第1位置と第2位置との間で移動可能に配置される第2ヨーク(12)と、を備える。磁場発生部品(10)と第1ヨーク(11)とによって形成される第1閉磁路(41)は、磁気熱量材料が収納される磁場印加領域(R)を通過する。磁場発生部品(10)と第1ヨーク(11)と第2ヨーク(12)とによって形成される第2閉磁路(42)は、磁場印加領域(R)を迂回する。磁場発生部品(10)と第1ヨーク(11)と磁場印加領域(R)との相対位置関係は一定である。第2ヨーク(12)が第2位置に位置するときの第2閉磁路(42)の磁気抵抗は、第2ヨーク(12)が第1位置に位置するときの第2閉磁路(42)の磁気抵抗よりも小さい。
Author SHINOZAKI, Masaru
TONOOKA, Shun
OGASAHARA, Atsushi
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