DISPLAY DEVICE, DISPLAY MODULE, ELECTRONIC DEVICE, AND METHOD FOR FABRICATING DISPLAY DEVICE

• Main Authors: FUJIE, Takahiro, HODO, Ryota, SASAGAWA, Shinya, HIURA, Yoshikazu
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 09.09.2022
• Subjects: ADVERTISING; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; DISPLAYING; EDUCATION; ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; LABELS OR NAME-PLATES; PHYSICS; SEALS; SEMICONDUCTOR DEVICES; SIGNS

Provided is a display device that has a high definition or a high resolution. The display device is fabricated by a method comprising: forming a conductive film, a first layer, and a first sacrificial layer; processing the first layer and the first sacrificial layer to expose a part of the conductive film; forming a second layer and a second sacrificial on the first sacrificial layer and the conductive film; processing the second layer and the second sacrificial layer to expose a part of the conductive film; processing the conductive film to form a first pixel electrode overlapping the first sacrificial layer and a second pixel electrode overlapping the second sacrificial layer; forming a two-layer insulating film covering at least the side surfaces of the first pixel electrode, second pixel electrode, first layer, and second layer, the side surface and upper surface of the first sacrificial layer, and the side surface and the upper surface of the second sacrificial layer; processing the two-layer insulating film to form a side wall covering the side surfaces of at least the first pixel layer and the first layer; and removing the first sacrificial layer and the second sacrificial layer to form a common electrode on the first layer and second layer. L'invention concerne un dispositif d'affichage qui a une haute définition ou une haute résolution. Le dispositif d'affichage est fabriqué selon un procédé consistant à effectuer les étapes suivantes : former un film conducteur, une première couche et une première couche sacrificielle; traiter la première couche et la première couche sacrificielle pour exposer une partie du film conducteur; former une seconde couche et une seconde couche sacrificielle sur la première couche sacrificielle et le film conducteur; traiter la seconde couche et la seconde couche sacrificielle pour exposer une partie du film conducteur; traiter le film conducteur pour former une première électrode de pixel chevauchant la première couche sacrificielle et une seconde électrode de pixel chevauchant la seconde couche sacrificielle; former un film isolant à deux couches qui recouvre au moins les surfaces latérales de la première électrode de pixel, de la seconde électrode de pixel, de la première couche et de la seconde couche, la surface latérale et la surface supérieure de la première couche sacrificielle, et la surface latérale et la surface supérieure de la seconde couche sacrificielle; traiter le film isolant à deux couches pour former une paroi latérale recouvrant les surfaces latérales d'au moins la première couche de pixel et la première couche; et éliminer la première couche sacrificielle et la seconde couche sacrificielle pour former une électrode commune sur la première couche et la seconde couche. 高精細または高解像度の表示装置を提供する。 導電膜、第１の層、及び、第１の犠牲層を形成し、第１の層及び第１の犠牲層を加工して導電膜の一部を露出させ、第１の犠牲層上及び導電膜上に第２の層、及び、第２の犠牲層を形成し、第２の層及び第２の犠牲層を加工して導電膜の一部を露出させ、導電膜を加工することで、第１の犠牲層と重なる第１の画素電極と、第２の犠牲層と重なる第２の画素電極を形成し、少なくとも第１の画素電極、第２の画素電極、第１の層、第２の層のそれぞれの側面、第１の犠牲層の側面及び上面、並びに、第２の犠牲層の側面及び上面を覆う絶縁膜を２層形成し、２層の絶縁膜を加工することで、少なくとも第１の画素電極及び第１の層の側面を覆う側壁を形成し、第１の犠牲層及び第２の犠牲層を除去し、第１の層上及び第２の層上に共通電極を形成する。