METHOD FOR CALIBRATING SIMULATION PROCESS BASED ON DEFECT-BASED PROCESS WINDOW

• Main Authors: SLACHTER, Abraham, TIMOSHKOV, Vadim Yourievich, DILLEN, Hermanus, HUNSCHE, Stefan, WANG, Fuming, VAN LARE, Marie-Claire, COLINA, Luis, RAGHUNATHAN, Sudharshanan, VAN INGEN SCHENAU, Koenraad, JIANG, Aiqin, KOOIMAN, Marleen
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 26.08.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Described herein are methods related to improving a simulation processes and solutions (e.g., retargeted patterns) associated with manufacturing of a chip. A method includes obtaining a plurality of dose-focus settings, and a reference distribution based on measured values of the characteristic of a printed pattern associated with each setting of the plurality of dose-focus settings. The method further includes, based on an adjustment model and the plurality of dose-focus settings, determining the probability density function (PDF) of the characteristic such that an error between the PDF and the reference distribution is reduced. The PDF can be a function of the adjustment model and variance associated with dose, the adjustment model being configured to change a proportion of non-linear dose sensitivity contribution to the PDF. A process window can be adjusted based on the determined PDF of the characteristic. L'invention concerne des procédés associés à l'amélioration d'un processus de simulation et des solutions (par ex., des motifs reciblés) associées à la fabrication d'une puce. Un procédé consiste à obtenir une pluralité de réglages focalisés sur la dose et une distribution de référence sur la base de valeurs mesurées de la caractéristique d'un motif imprimé associé à chaque réglage de la pluralité de réglages focalisés sur la dose. Le procédé consiste en outre, sur la base d'un modèle d'ajustement et de la pluralité de réglages focalisés sur la dose, à déterminer la fonction de densité de probabilité (PDF) de la caractéristique, afin de réduire une erreur entre la PDF et la distribution de référence. La PDF peut être une fonction du modèle d'ajustement et de la variance associée à la dose, le modèle d'ajustement étant configuré pour modifier une proportion de contribution de la sensibilité non linéaire à la dose vis-à-vis de la PDF. Une fenêtre de traitement peut être ajustée sur la base de la PDF déterminée de la caractéristique.