METHOD FOR DETERMINING A MEASUREMENT RECIPE AND ASSOCIATED APPARATUSES

• Main Authors: VAN LEEST, Adriaan, TEL, Wim
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 24.06.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Disclosed is a method for determining a measurement recipe describing measurement settings for measuring a parameter of interest from a substrate subject to an etch induced parameter error, said etch induced parameter error affecting measurement of the parameter of interest in a recipe dependent manner. The method comprises obtaining parameter of interest set-up data relating to measurements of at least one set-up substrate on which the parameter of interest has various first induced set values and etch induced parameter set-up data relating to measurements of at least one set-up substrate on which the etch induced parameter has various second induced set values. The recipe is determined so as to minimize the effect of the etch induced parameter on measurement of the parameter of interest. L'invention concerne un procédé permettant de déterminer une formule de mesure décrivant des réglages de mesure servant à mesurer un paramètre d'intérêt sur un substrat soumis à une erreur de paramètre induite par gravure, ladite erreur de paramètre induite par gravure affectant la mesure du paramètre d'intérêt d'une manière qui dépend de la formule. Le procédé consiste à obtenir des données de réglage de paramètre d'intérêt concernant des mesures d'au moins un substrat de réglage sur lequel le paramètre d'intérêt a diverses premières valeurs d'ensemble induites et des données de réglage de paramètre induites par gravure concernant des mesures d'au moins un substrat de réglage sur lequel le paramètre induit par gravure a diverses secondes valeurs d'ensemble induites. La formule est déterminée de façon à minimiser l'effet du paramètre induit par gravure sur la mesure du paramètre d'intérêt.