SPUTTERING TARGET CAPABLE OF DISCHARGING STEADILY

• Main Authors: IWABUCHI, Yasuyuki, OGINO, Shin-ichi
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 05.03.2020
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

Provided is a ferromagnetic material sputtering target which can achieve steady discharging with a magnetron sputtering device, is reduced in the generation of particles during sputtering, and has improved magnetic flux leakage. A sputtering target comprising (A) multiple metal particles each comprising Co or a Co alloy and (B) a composite phase in which Co or a Co alloy that fills gaps among the multiple metal particles and a metal oxide are dispersed in each other, wherein the difference between the Co concentration in the Co or the Co alloy constituting the multiple metal particles (A) and the Co concentration in the Co or the Co alloy constituting the composite phase (B) is 5 at% or less and the ratio of the area of the multiple metal particles to the total area of the multiple metal particles (A) and the composite phase (B) is 20 to 65%. L'invention concerne une cible de pulvérisation de matériau ferromagnétique, qui peut réaliser une décharge stable à l'aide d'un dispositif de pulvérisation magnétron, qui permet une réduction de la génération de particules pendant la pulvérisation et qui présente une fuite de flux magnétique plus favorable. La cible de pulvérisation comprend (A) multiples particules métalliques comprenant chacune du Co ou un alliage de Co et (B) une phase composite dans laquelle du Co ou un alliage de Co qui remplit des espaces parmi les multiples particules métalliques et un oxyde métallique sont dispersés l'un dans l'autre, la différence entre la concentration en Co dans le Co ou l'alliage de Co constituant les multiples particules métalliques (A) et la concentration en Co dans le Co ou l'alliage de Co constituant la phase composite (B) étant de 5 % atomique ou moins, et le rapport de la surface des multiples particules métalliques à la surface totale des multiples particules métalliques (A) et de la phase composite (B) étant de 20 à 65 %. マグネトロンスパッタ装置で安定した放電が得られるとともに、スパッタ時のパーティクル発生が少ない、漏洩磁束を向上させた強磁性材スパッタリングターゲットを提供する。Ｃｏ又はＣｏ合金で構成された複数の金属粒子（Ａ）、並びに、該複数の金属粒子間の隙間を埋めるＣｏ又はＣｏ合金と金属酸化物とが互いに分散し合っている複合相（Ｂ）を備え、複数の金属粒子（Ａ）を構成するＣｏ又はＣｏ合金中のＣｏ濃度と、複合相（Ｂ）を構成するＣｏ又はＣｏ合金中のＣｏ濃度との差が５ａｔ％以下であり、複数の金属粒子（Ａ）及び複合相（Ｂ）の合計面積に対する複数の金属粒子の面積比率が２０～６５％である、スパッタリングターゲット。