VAPOR DEPOSITION MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING VAPOR DEPOSITION MASK

• Main Author: YAMABUCHI, Koji
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 03.10.2019
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

A vapor deposition mask (7) for forming a vapor deposition layer on a vapor-deposition target substrate is provided with: an FMM frame (8) in which an FMM (82) is provided; and an open mask frame (9) in which an open mask (92) that includes a non-opening section (94) and a plurality of opening sections (93) corresponding to a plurality of active regions is provided, wherein an effective section (83) including a plurality of vapor deposition holes is provided in the FMM so as to extend over the plurality of active regions, and the FMM frame and the open mask frame are joined together in an overlapping manner. L'invention concerne un masque de dépôt en phase vapeur (7) pour former une couche de dépôt en phase vapeur sur un substrat cible de dépôt en phase vapeur pourvu : d'un cadre FMM (8) dans lequel un FMM (82) est disposé ; et d'un cadre de masque ouvert (9) dans lequel est disposé un masque ouvert (92) qui comprend une section sans ouverture (94) et une pluralité de sections d'ouverture (93) correspondant à une pluralité de régions actives, une section efficace (83) comprenant une pluralité de trous de dépôt en phase vapeur étant disposée dans le FMM de façon à s'étendre sur la pluralité de régions actives et le cadre FMM et le cadre de masque ouvert sont joints l'un à l'autre de manière chevauchante. 被蒸着基板に蒸着層を形成するための蒸着マスク（７）は、ＦＭＭ（８２）が設けられたＦＭＭフレーム（８）と、複数のアクティブ領域に対応する複数の開口部（９３）と非開口部（９４）を含むオープンマスク（９２）が設けられたオープンマスクフレーム（９）とを備え、ＦＭＭには、複数の蒸着孔を含む有効部（８３）が複数のアクティブ領域に跨るように設けられ、ＦＭＭフレームおよびオープンマスクフレームを重ねて接合する。