IMPURITY DIFFUSION COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING SOLAR CELL

The purpose of the present invention is to provide an impurity diffusion composition which ensures excellent storage stability of a coating solution, and which can improve continuous printability during screen printing and to enable uniform diffusion onto a semiconductor substrate. In order to achie...

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Main Authors YUBA, Tomoyuki, KITADA, Tsuyoshi
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 19.09.2019
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Abstract The purpose of the present invention is to provide an impurity diffusion composition which ensures excellent storage stability of a coating solution, and which can improve continuous printability during screen printing and to enable uniform diffusion onto a semiconductor substrate. In order to achieve the above purpose, an impurity diffusion composition of the present invention contains: (A) a polymer (hereinafter, referred to as polymer (A)) having, in a side chain, at least one structure selected from general formulae (1) and (2); and (B) an impurity diffusion component. (In general formulae (1) and (2), R1 to R14 each independently represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 8 carbon atoms. a1 represents an integer of 1 to 4, and a2 and a3 each independently represents an integer of 0 to 2. a2+a3 represents an integer of 0 to 3. * indicates a binding site to a polymer.) Le but de la présente invention est de fournir une composition de diffusion d'impuretés qui assure une excellente stabilité au stockage d'une solution de revêtement, et qui peut améliorer l'imprimabilité continue pendant l'impression par sérigraphie et pour permettre la diffusion uniforme sur un substrat semi-conducteur. Afin d'atteindre l'objectif ci-dessus, une composition de diffusion d'impuretés de la présente invention contient : (A) un polymère (ci-après appelé polymère (A)) ayant, dans une chaîne latérale, au moins une structure choisie parmi les formules générales (1) et (2) ; et (B) un composant de diffusion d'impuretés. (Dans Les formules générales (1) et (2), R1 à R14 représentent chacun Indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe organique ayant 1 à 8 atomes de carbone. a1 représente un nombre entier de 1 à 4, et a2 et a3 représentent chacun indépendamment un nombre entier de 0 à 2. a2+a3 représente un nombre entier de 0 à 3. * Indique un site de liaison à un polymère.) 本発明は、塗布液の保存安定性に優れ、スクリーン印刷時の連続印刷性の向上と、半導体基板への均一な拡散とを可能とする不純物拡散組成物を提供することを目的とする。 上記目的を達成するため、本発明の不純物拡散組成物は、(A)下記一般式(1)および(2)から選ばれた少なくとも1つの構造を側鎖に含むポリマー(以下、(A)ポリマーと称する)、および(B)不純物拡散成分を含有する。 (一般式(1)および(2)中、R1~R14は、それぞれ独立に、水素原子、または炭素数1~8の有機基を示す。a1は1~4の整数を示し、a2およびa3はそれぞれ独立に0~2の整数を示す。a2+a3は0~3の整数を示す。*はポリマーとの結合部分を示す。)
AbstractList The purpose of the present invention is to provide an impurity diffusion composition which ensures excellent storage stability of a coating solution, and which can improve continuous printability during screen printing and to enable uniform diffusion onto a semiconductor substrate. In order to achieve the above purpose, an impurity diffusion composition of the present invention contains: (A) a polymer (hereinafter, referred to as polymer (A)) having, in a side chain, at least one structure selected from general formulae (1) and (2); and (B) an impurity diffusion component. (In general formulae (1) and (2), R1 to R14 each independently represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 8 carbon atoms. a1 represents an integer of 1 to 4, and a2 and a3 each independently represents an integer of 0 to 2. a2+a3 represents an integer of 0 to 3. * indicates a binding site to a polymer.) Le but de la présente invention est de fournir une composition de diffusion d'impuretés qui assure une excellente stabilité au stockage d'une solution de revêtement, et qui peut améliorer l'imprimabilité continue pendant l'impression par sérigraphie et pour permettre la diffusion uniforme sur un substrat semi-conducteur. Afin d'atteindre l'objectif ci-dessus, une composition de diffusion d'impuretés de la présente invention contient : (A) un polymère (ci-après appelé polymère (A)) ayant, dans une chaîne latérale, au moins une structure choisie parmi les formules générales (1) et (2) ; et (B) un composant de diffusion d'impuretés. (Dans Les formules générales (1) et (2), R1 à R14 représentent chacun Indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe organique ayant 1 à 8 atomes de carbone. a1 représente un nombre entier de 1 à 4, et a2 et a3 représentent chacun indépendamment un nombre entier de 0 à 2. a2+a3 représente un nombre entier de 0 à 3. * Indique un site de liaison à un polymère.) 本発明は、塗布液の保存安定性に優れ、スクリーン印刷時の連続印刷性の向上と、半導体基板への均一な拡散とを可能とする不純物拡散組成物を提供することを目的とする。 上記目的を達成するため、本発明の不純物拡散組成物は、(A)下記一般式(1)および(2)から選ばれた少なくとも1つの構造を側鎖に含むポリマー(以下、(A)ポリマーと称する)、および(B)不純物拡散成分を含有する。 (一般式(1)および(2)中、R1~R14は、それぞれ独立に、水素原子、または炭素数1~8の有機基を示す。a1は1~4の整数を示し、a2およびa3はそれぞれ独立に0~2の整数を示す。a2+a3は0~3の整数を示す。*はポリマーとの結合部分を示す。)
Author YUBA, Tomoyuki
KITADA, Tsuyoshi
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不純物拡散組成物、それを用いた半導体素子の製造方法および太陽電池の製造方法
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SubjectTerms BASIC ELECTRIC ELEMENTS
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ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
Title IMPURITY DIFFUSION COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING SOLAR CELL
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