TEMPERATURE-RESPONSIVE CELL CULTURE SUBSTRATE, AND METHOD FOR PRODUCING SAME
Provided is a temperature-responsive cell culture substrate having superior cell detachability. A temperature-responsive cell culture substrate containing (A) a temperature-responsive layer and (B) a base layer, wherein the temperature-responsive layer (A) contains a temperature-responsive polymer h...
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Format | Patent |
Language | English French Japanese |
Published |
01.11.2018
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Summary: | Provided is a temperature-responsive cell culture substrate having superior cell detachability. A temperature-responsive cell culture substrate containing (A) a temperature-responsive layer and (B) a base layer, wherein the temperature-responsive layer (A) contains a temperature-responsive polymer having a nitrogen atom, the temperature-responsive layer (A) is arranged on at least one surface of the base layer (B), the base layer (B) has no nitrogen atom, and the nitrogen element concentration N1s and the carbon element concentration C1s both measured by an X-ray photoelectron spectroscopy at an emission angle of 45° meet mathematical formula (1): 100×(N1s/C1s)/(N/C) ≥ 80 (wherein N/C represents a theoretical value of the content ratio of the elements in the temperature-responsive polymer) in a temperature-responsive layer (A) side surface of the base layer (B).
L'invention concerne un substrat de culture cellulaire sensible à la température ayant une capacité de détachement des cellules supérieure. Un substrat de culture cellulaire sensible à la température contient (A) une couche sensible à la température et (B) une couche de base, la couche sensible à la température (A) contenant un polymère sensible à la température ayant un atome d'azote, la couche sensible à la température (A) étant disposée sur au moins une surface de la couche de base (B), la couche de base (B) n'ayant pas d'atome d'azote, et la concentration en élément azote N1s et la concentration en élément carbone C1s toutes les deux mesurées par spectroscopie photoélectronique à rayons X à un angle d'émission de 45° répondant à la formule mathématique (1) : 100×(N1s/C1s)/(N/C) ≥ 80 (dans laquelle N/C représente une valeur théorique du rapport de la teneur des éléments dans le polymère sensible à la température) dans une surface côté couche sensible à la température (A) de la couche de base (B).
より優れた細胞剥離性を有する温度応答性細胞培養基材を提供する。 (A)温度応答層;及び (B)基材層 を含有する温度応答性細胞培養基材であって、 前記温度応答層(A)は、窒素原子を有する温度応答性ポリマーを含有し、 前記温度応答層(A)は、前記基材層(B)の少なくとも一方の面に配置されており、 前記基材層(B)は、窒素原子を有さず、かつ 前記温度応答層(A)側の表面は、放出角45°におけるX線光電子分光法で測定される窒素元素濃度N1s及び炭素元素濃度C1sが、以下の数式(1): (1)100×(N1s/C1s)/(N/C)≧80 (数式中、N/Cは、前記温度応答性ポリマーにおける各元素比の理論値を表わす) を満たす、温度応答性細胞培養基材。 |
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Bibliography: | Application Number: WO2018JP05836 |