INKJET COATING METHOD AND INKJET COATING DEVICE
Provided is an inkjet coating method and an inkjet coating device with which it is possible to accurately form a fine hole part. Specifically, the present invention is an inkjet coating method in which coating is performed by discharging a coating liquid via an inkjet scheme and a non-coating region...
Saved in:
Main Authors | , , |
---|---|
Format | Patent |
Language | English French Japanese |
Published |
18.08.2016
|
Subjects | |
Online Access | Get full text |
Cover
Loading…
Abstract | Provided is an inkjet coating method and an inkjet coating device with which it is possible to accurately form a fine hole part. Specifically, the present invention is an inkjet coating method in which coating is performed by discharging a coating liquid via an inkjet scheme and a non-coating region R1 is partially provided, whereby a coating film having a hole part H is formed on a substrate W; wherein the inkjet coating method has: a periphery coating step for coating a periphery region R3, which is a region surrounding a vicinity region R2 surrounding the non-coating region R1; and a vicinity coating step for coating the vicinity region R2.
L'invention concerne un procédé de revêtement par jet d'encre et un dispositif de revêtement par jet d'encre avec lesquels il est possible de former de manière précise une partie trou fin. En particulier, la présente invention est un procédé de revêtement par jet d'encre dans lequel le revêtement est réalisé en déversant un liquide de revêtement par l'intermédiaire d'un schéma de jet d'encre et une région de non-revêtement R1 est partiellement prévue, grâce à quoi un film de revêtement ayant une partie trou H est formée sur un substrat W ; le procédé de revêtement par jet d'encre comportant : une étape de revêtement périphérique consistant à revêtir une zone périphérique R3, qui est une région entourant une région voisine R2 entourant la région de non-revêtement R1 ; et une étape de revêtement voisin consistant à revêtir la région voisine R2.
微小なホール部を精度良く形成することが可能なインクジェット塗布方法およびインクジェット塗布装置を提供する。具体的には、インクジェット法により塗布液を吐出して塗布を行い、また一部非塗布領域R1を設けることにより、ホール部Hを有する塗布膜を基材W上に形成するインクジェット塗布方法であり、非塗布領域R1を囲む領域である近傍領域R2をさらに囲む領域である周辺領域R3に塗布を行う周辺塗布ステップと、近傍領域R2に塗布を行う近傍塗布ステップと、を有する。 |
---|---|
AbstractList | Provided is an inkjet coating method and an inkjet coating device with which it is possible to accurately form a fine hole part. Specifically, the present invention is an inkjet coating method in which coating is performed by discharging a coating liquid via an inkjet scheme and a non-coating region R1 is partially provided, whereby a coating film having a hole part H is formed on a substrate W; wherein the inkjet coating method has: a periphery coating step for coating a periphery region R3, which is a region surrounding a vicinity region R2 surrounding the non-coating region R1; and a vicinity coating step for coating the vicinity region R2.
L'invention concerne un procédé de revêtement par jet d'encre et un dispositif de revêtement par jet d'encre avec lesquels il est possible de former de manière précise une partie trou fin. En particulier, la présente invention est un procédé de revêtement par jet d'encre dans lequel le revêtement est réalisé en déversant un liquide de revêtement par l'intermédiaire d'un schéma de jet d'encre et une région de non-revêtement R1 est partiellement prévue, grâce à quoi un film de revêtement ayant une partie trou H est formée sur un substrat W ; le procédé de revêtement par jet d'encre comportant : une étape de revêtement périphérique consistant à revêtir une zone périphérique R3, qui est une région entourant une région voisine R2 entourant la région de non-revêtement R1 ; et une étape de revêtement voisin consistant à revêtir la région voisine R2.
微小なホール部を精度良く形成することが可能なインクジェット塗布方法およびインクジェット塗布装置を提供する。具体的には、インクジェット法により塗布液を吐出して塗布を行い、また一部非塗布領域R1を設けることにより、ホール部Hを有する塗布膜を基材W上に形成するインクジェット塗布方法であり、非塗布領域R1を囲む領域である近傍領域R2をさらに囲む領域である周辺領域R3に塗布を行う周辺塗布ステップと、近傍領域R2に塗布を行う近傍塗布ステップと、を有する。 |
Author | OKABE, Hitoshi TOMOEDA, Satoshi SHIMATANI, Kenichi |
Author_xml | – fullname: OKABE, Hitoshi – fullname: SHIMATANI, Kenichi – fullname: TOMOEDA, Satoshi |
BookMark | eNrjYmDJy89L5WTQ9_Tz9nINUXD2dwzx9HNX8HUN8fB3UXD0c1FAk3FxDfN0duVhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHh_kYGhmaGRpYmJsaOhsbEqQIAeW0oXA |
ContentType | Patent |
DBID | EVB |
DatabaseName | esp@cenet |
DatabaseTitleList | |
Database_xml | – sequence: 1 dbid: EVB name: esp@cenet url: http://worldwide.espacenet.com/singleLineSearch?locale=en_EP sourceTypes: Open Access Repository |
DeliveryMethod | fulltext_linktorsrc |
Discipline | Medicine Chemistry Sciences Education Physics |
DocumentTitleAlternate | PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE REVÊTEMENT PAR JET D'ENCRE インクジェット塗布方法およびインクジェット塗布装置 |
ExternalDocumentID | WO2016129443A1 |
GroupedDBID | EVB |
ID | FETCH-epo_espacenet_WO2016129443A13 |
IEDL.DBID | EVB |
IngestDate | Fri Jul 19 12:52:21 EDT 2024 |
IsOpenAccess | true |
IsPeerReviewed | false |
IsScholarly | false |
Language | English French Japanese |
LinkModel | DirectLink |
MergedId | FETCHMERGED-epo_espacenet_WO2016129443A13 |
Notes | Application Number: WO2016JP52984 |
OpenAccessLink | https://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20160818&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2016129443A1 |
ParticipantIDs | epo_espacenet_WO2016129443A1 |
PublicationCentury | 2000 |
PublicationDate | 20160818 |
PublicationDateYYYYMMDD | 2016-08-18 |
PublicationDate_xml | – month: 08 year: 2016 text: 20160818 day: 18 |
PublicationDecade | 2010 |
PublicationYear | 2016 |
RelatedCompanies | TORAY ENGINEERING CO., LTD |
RelatedCompanies_xml | – name: TORAY ENGINEERING CO., LTD |
Score | 3.1666825 |
Snippet | Provided is an inkjet coating method and an inkjet coating device with which it is possible to accurately form a fine hole part. Specifically, the present... |
SourceID | epo |
SourceType | Open Access Repository |
SubjectTerms | ADVERTISING BASIC ELECTRIC ELEMENTS CRYPTOGRAPHY DISPLAY DISPLAYING EDUCATION ELECTRIC HEATING ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY LABELS OR NAME-PLATES PHYSICS SEALS SEMICONDUCTOR DEVICES SIGNS |
Title | INKJET COATING METHOD AND INKJET COATING DEVICE |
URI | https://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20160818&DB=EPODOC&locale=&CC=WO&NR=2016129443A1 |
hasFullText | 1 |
inHoldings | 1 |
isFullTextHit | |
isPrint | |
link | http://utb.summon.serialssolutions.com/2.0.0/link/0/eLvHCXMwfV3dS8MwED_G_HzTqvgxpaD0rYx26dfDkC5J3SZth9S5t5F0eZjINlzFf98kdDp82GPu4LgELveRu18AHlDJHC4C13ZC7tvIEdxmUenZs6D0ZsITMuRVpYE08_uvaDjxJg342MzCaJzQbw2OKC2qlPZe6ft69VfEIrq3ct3mc0laPiZFl1h1duz4CqHNIr0uHeUkxxbGMm-zshfNk64NoU4sc6U9FUgrpH067qm5lNW2U0lOYH8k5S2qU2i8MwOO8ObvNUP9pVz3XRhwmNbP3wYc6H7Nci2JtU2uz6A9yJ6HtDBxHheD7MlMadHPiRlnxPzHIXQ8wPQc7hNa4L4t9Zn-bn_6lm8r37mA5mK5EJdgRkHEQy7ciLkdxD3pqxHzBPJRxEQYBP4VtHZJut7NvoFjtVT1UydsQbP6_BK30gFX_E6f2w8EbILq |
link.rule.ids | 230,309,786,891,25594,76903 |
linkProvider | European Patent Office |
linkToHtml | http://utb.summon.serialssolutions.com/2.0.0/link/0/eLvHCXMwfV1LT8JAEJ4QfOBNqwYVtYmmt4a0bF8HYmC3WJC2xFTk1nTLHjQGiNT4951uihIPXGeSyewms99-s7MzAPckzwwuHFM3XG7rxBBcz7zc0udObs2FJfDKW6YGwsgOXshoZs1q8LH5CyP7hH7L5ogYUTnGeyHP69VfEovJ2sp1m7-haPkwSLpMq9ixYZcd2jTW7_qTmMVUoxR5mxY9Sx1CGyGdHnKlPQdJoSRL0375L2W1DSqDY9ifoL1FcQK190yBBt3MXlPKWcpV3YUCh2H1_K3AgazXzNcorGJyfQrtYfQ08hOVxr1kGD2qoZ8EMVN7EVP_aZg_HVL_DO4GfkIDHf1Jf5efvsbbznfOob5YLkQTVM_xuMuF6WVmh3ALsZpkliA28TLhOo59Aa1dli53q2-hESThOB2jr1dwVKrKXKrhtqBefH6JawTjgt_IPfwBSCKF1A |
openUrl | ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info%3Aofi%2Fenc%3AUTF-8&rfr_id=info%3Asid%2Fsummon.serialssolutions.com&rft_val_fmt=info%3Aofi%2Ffmt%3Akev%3Amtx%3Apatent&rft.title=INKJET+COATING+METHOD+AND+INKJET+COATING+DEVICE&rft.inventor=OKABE%2C+Hitoshi&rft.inventor=SHIMATANI%2C+Kenichi&rft.inventor=TOMOEDA%2C+Satoshi&rft.date=2016-08-18&rft.externalDBID=A1&rft.externalDocID=WO2016129443A1 |