MONOMER, HARDMASK COMPOSITION COMPRISING MONOMER, AND PATTERN FORMING METHOD USING HARDMASK COMPOSITION
Provided are a monomer for a hardmask composition which is represented by chemical formula 1, a hardmask composition comprising the monomer and a pattern forming method using the hardmask composition. La présente invention concerne un monomère pour une composition de masque dur représentée par la fo...
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Format | Patent |
Language | English French Korean |
Published |
28.08.2014
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Summary: | Provided are a monomer for a hardmask composition which is represented by chemical formula 1, a hardmask composition comprising the monomer and a pattern forming method using the hardmask composition.
La présente invention concerne un monomère pour une composition de masque dur représentée par la formule chimique 1, une composition de masque dur comprenant ledit monomère, et un procédé de formation de motif utilisant ladite composition de masque dur. |
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Bibliography: | Application Number: WO2013KR03993 |