PRODUCTION METHOD FOR DISPLAY SUBSTRATES
Provided is a production method for display substrates which includes: a step in which a resin composition including (a) a polyimide precursor, (b) an alkoxysilane compound, and (c) an organic solvent is applied to a support and heated to form a polyimide resin film; a step in which a semiconductor...
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Format | Patent |
Language | English French Japanese |
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29.08.2013
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Summary: | Provided is a production method for display substrates which includes: a step in which a resin composition including (a) a polyimide precursor, (b) an alkoxysilane compound, and (c) an organic solvent is applied to a support and heated to form a polyimide resin film; a step in which a semiconductor element is formed on the polyimide film; and a step in which the polyimide film having the semiconductor element formed thereon is peeled from the support.
L'invention concerne un procédé de fabrication de substrat d'affichage comportant chacune des étapes suivantes : une étape au cours de laquelle une composition de résine qui comprend (a) un précurseur de polyamide, (b) un composé alkoxysilane, et (c) un solvant organique, est appliquée sur un corps de support, et chauffée, formant ainsi un film de résine polyamide; une étape au cours de laquelle un élément semi-conducteur est formé sur le film de résine polyamide; et une étape au cours de laquelle le film de résine polyamide formé par l'élément semi-conducteur, est décollé du corps de support. |
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Bibliography: | Application Number: WO2013JP00845 |